[发明专利]分离膜结构体的检查方法、分离膜组件的制造方法和分离膜结构体的制造方法

说明书

分离膜组件(10)的检查方法包括：组装工序，将具有多孔质基材(11)和分离膜(12)的分离膜结构体(1)密封于壳体(2)内；检查工序，对充满于分离膜(12)的第1主面侧的检查用液体进行加压。检查用液体具有如下特性：将分离膜结构体(1)在检查用液体中浸渍60分钟后以150℃进行了24小时干燥的情况下，分离膜的He透过速度降低率为10％以下。

技术领域

本发明涉及分离膜结构体的检查方法、分离膜组件的制造方法和分离膜结构体的制造方法。

背景技术

以往，对于具有多孔质基材和分离膜的分离膜结构体，一直在出厂前进行强度检查，或者在组装于组件后进行泄漏检查。

例如，在专利文献1中提出了如下方法：通过以在组装于组件的分离膜的第1主面侧填充有过滤液的状态向第2主面侧供给加压气体来检查分离膜的缺陷、分离膜的密封不良等。然而，在专利文献1的方法中存在如下问题：为了进行检查而需要大量的加压气体，因此成本变高。

因此，在专利文献2中提出了如下方法：通过对填充于分离膜的第1主面侧的液体进行加压来检查分离膜的强度。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平5-157654号公报

专利文献2：日本特开2014-46286号公报

发明内容

然而，在专利文献2的方法中存在如下问题：如果液体吸附于分离膜的细孔，则在检查后分离膜的透过性能会降低。

本发明是鉴于上述情况而进行的，目的在于提供可抑制分离膜的透过性能降低的分离膜结构体的检查方法、分离膜组件的制造方法和分离膜结构体的制造方法。

本发明的分离膜结构体的检查方法包括：组装工序，将具有多孔质基材和分离膜的分离膜结构体密封于壳体内；检查工序，对充满于分离膜的第1主面侧的检查用液体进行加压。检查用液体具有如下特性：将分离膜结构体在检查用液体中浸渍60分钟后以150℃进行了24小时干燥的情况下，分离膜的He透过速度降低率为10％以下。

根据本发明，能够提供可抑制分离膜的透过性能降低的分离膜结构体的检查方法、分离膜组件的制造方法和分离膜结构体的制造方法。

附图说明

图1是分离膜组件的截面图。

图2是用于对检查用液体的选定方法进行说明的示意图。

图3是用于对检查用液体的选定方法进行说明的示意图。

图4是用于对检查用液体的选定方法进行说明的示意图。

图5是用于对使用检查用液体的检查方法进行说明的示意图。

图6是用于对使用检查用液体的检查方法进行说明的示意图。

具体实施方式

(分离膜组件10)

图1是分离膜组件10的截面图。分离膜组件10具备分离膜结构体1和壳体2。

1.分离膜结构体1

分离膜结构体1为整体型。整体型是指具有沿着长度方向贯通的多个隔室的形状，是包括蜂窝形状的概念。分离膜结构体1配置于壳体2的内部。

分离膜结构体1具有多孔质基材11和分离膜12。

多孔质基材11形成为在长度方向延伸的圆柱状。在多孔质基材11的内部形成有多个隔室CL。各隔室CL在长度方向延伸。各隔室CL与多孔质基材11的两端面相连。