[发明专利]用于基板的处理设备以及操作此处理设备的方法

权利要求书

1.一种用于将真空提供给不同真空单元的装置，包括：

彼此分离的至少三个真空单元；

第一泵及第一管路系统，所述第一管路系统将所述第一泵与所述至少三个真空单元中的每个连接在一起；

第二泵及第二管路系统，所述第二管路系统将所述第二泵与所述至少三个真空单元中的每个连接在一起；

至少一定数目的对应于所述至少三个真空单元的数目的第一阀，其如此地布置在所述第一管路系统中，使得所述至少三个真空单元的每个皆分配有第一阀，从而对相应的所述真空单元与所述第一泵之间的连接进行控制；

至少一定数目的对应于所述至少三个真空单元的数目的第二阀，其如此地布置在所述第二管路系统中，使得所述至少三个真空单元的每个皆分配有第二阀，从而对相应的所述真空单元与所述第二泵之间的连接进行控制；及

控制单元，其用于控制至少所述第一阀及第二阀，从而通过所述第一泵和/或第二泵来分别地控制所述至少三个真空单元的泵出。

2.根据权利要求1所述的用于将真空提供给不同真空单元的装置，其中所述真空单元为用于基板的处理装置，所述基板为半导体基板或光伏用基板，且所述至少三个真空单元的每个皆为一制程单元。

3.根据权利要求1或2所述的用于将真空提供给不同真空单元的装置，其中所述第一管路系统中的多个所述第一阀为调节阀，特别是蝶形阀。

4.根据前述权利要求中任一项所述的用于将真空提供给不同真空单元的装置，所述装置还包括至少一定数目的对应于所述至少三个真空单元的第三阀，其如此地布置在所述第一管路系统中，使得所述至少三个真空单元的每个皆分配有第三阀，从而打开或关闭相应的所述真空单元与所述第一泵之间的连接。

5.根据权利要求1或2所述的用于将真空提供给不同真空单元的装置，其中所述第一管路系统中的多个所述第一阀分别为关闭阀或切换阀并且在所述第一管路系统中设有用于所有所述真空单元的共同调节阀。

6.根据前述权利要求中任一项所述的处理装置，其中所述至少三个真空单元的每个包括至少一个可调节的输气装置，所述输气装置与至少一气体源存在连接，其中所述气体源是制程气体源及冲洗气体源，如氮气源。

7.根据前述权利要求中任一项所述的处理装置，其中所述第一管路系统包括共同管路区段，其位于所述泵与所述第一阀或第三阀之间，且其中所述处理装置还包括可调节的输气装置，所述输气装置与所述共同管路区段连通且与气体源存在连接，其中所述气体源是冲洗气体源，如氮气源。

8.根据权利要求6或7所述的处理装置，所述处理装置还包括控制单元，所述控制单元适于对与所述至少三个真空单元存在连接的进气管路和/或与所述共同管路区段存在连接的进气管路进行控制，从而在所述至少三个真空单元中的一或多个中进行处理期间，在所述共同管路区段中维持基本相同的总体积流量。

9.根据前述权利要求中任一项所述的处理装置，其中所述第二管路系统中的所述第二阀为包括旁路的阀。

10.根据前述权利要求中任一项所述的处理装置，还包括：

第三泵及第三管路系统，所述第三管路系统将所述第三泵与所述至少三个真空单元的至少一部分连接在一起；

至少一定数目的对应于连接的所述至少三个真空单元的数目的第四阀，其如此地布置在所述第一管路系统中，使得每个连接的所述至少三个真空单元皆分配有第四阀，从而对相应的所述真空单元与所述第三泵之间的连接进行控制。

11.根据权利要求10所述的处理装置，其中所述第三管路系统及所述第一管路系统以与所述真空单元相邻的方式包括一共同管路区段，在所述共同管路区段中布置有所述第一阀。

12.根据权利要求10或11并至少结合3所述的处理装置，其中第三阀及所述第四阀彼此闭锁，使得所述第三阀及所述第四阀中只有一个可被打开。