[发明专利]正性光致抗蚀剂组合物、由其制造的图案和用于制造图案的方法

权利要求书

1.一种正性光致抗蚀剂组合物，包含：

粘合剂树脂，所述粘合剂树脂包含其中重复单元中引入有碱溶性官能团的聚合物树脂、和基于丙烯酸酯的树脂；

低聚物化合物，在所述低聚物化合物中官能团中引入有选自缩醛、叔丁氧基羰基和叔丁基酯中的至少一个保护基团，以及所述低聚物化合物包含与所述聚合物树脂或所述基于丙烯酸酯的树脂相同的重复单元；以及

光致产酸剂，

其中所述低聚物化合物的重均分子量在1500g/mol至3000g/mol的范围内，

其中所述低聚物化合物中包含的所述重复单元为以下化学式1、2和3中的至少一者：

[化学式1]

其中，在化学式1中，

R₁和R₂为氢、卤素或具有1至10个碳原子的脂族基团，

n₁和n₂各自为整数，其中0≤n₁≤3以及0≤n₂≤3，以及

a和b各自为整数，其中0a≤80以及20≤b≤50；

[化学式2]

其中，在化学式2中，

R₃和R₄为氢、卤素或具有1至10个碳原子的脂族基团，

n₃和n₄各自为整数，其中0≤n₃≤4以及0≤n₄≤4，以及

c和d各自为整数，其中0c≤80以及20≤d≤50；以及

[化学式3]

其中，在化学式3中，

R₅、R₆、R₇和R₈为氢、卤素或具有1至10个碳原子的脂族基团，

n₅为整数，其中0≤n₅≤5，以及

e、f、g和h各自独立地为大于0且为50或更小的整数。

2.根据权利要求1所述的正性光致抗蚀剂组合物，其中所述聚合物树脂为选自丙烯酸类树脂、酚醛清漆树脂和聚羟基苯乙烯树脂中的至少一者。

3.根据权利要求1所述的正性光致抗蚀剂组合物，其中所述碱溶性官能团为羟基或羧酸基。

4.根据权利要求1所述的正性光致抗蚀剂组合物，其中所述低聚物化合物中包含的所述重复单元的末端引入有由以下化学式4表示的链转移剂：

[化学式4]

其中，在化学式4中，

R₉、R₁₀和R₁₁各自独立地为氢、卤素或具有1至10个碳原子的脂族基团，以及

n₆为整数，其中1≤n₆≤20。

5.根据权利要求4所述的正性光致抗蚀剂组合物，其中基于所述低聚物化合物的总重量，所述链转移剂以5重量％至15重量％的范围引入。

6.根据权利要求4所述的正性光致抗蚀剂组合物，其中所述链转移剂为3-巯基丙酸。

7.根据权利要求1所述的正性光致抗蚀剂组合物，其中所述低聚物化合物由以下化学式5表示：

[化学式5]

其中e、f、g和h各自独立地为大于0且为50或更小的整数。

8.一种光致抗蚀剂图案，由根据权利要求1至7中任一项所述的正性光致抗蚀剂组合物制造。

9.一种用于制造光致抗蚀剂图案的方法，包括：

将包含根据权利要求1至7中任一项所述的光致抗蚀剂组合物的厚膜光致抗蚀剂层层合在支撑体上的层合步骤；

用包含电磁波或粒子束的辐射照射所述厚膜光致抗蚀剂层的曝光步骤；以及

使曝光之后的所述厚膜光致抗蚀剂层显影以获得厚膜抗蚀剂图案的显影步骤。