[发明专利]光照射装置

权利要求书

1.一种光照射装置，其沿基板的第一方向以带状形成曝光图案，所述光照射装置的特征在于，包括：

光源，其射出光；

掩模，其在与光轴不交叉的位置形成有沿所述第一方向的带状的透光区域；

准直机构，其使从所述光源射出的光成为大致平行光并向所述掩模照射；以及

复眼透镜，其配置在所述光源与所述准直机构之间，使向所述掩模照射的光的强度分布均匀，且所述复眼透镜包括透镜FE1～FEn，其中，n＝1、2、3或4，

在与所述第一方向大致正交的第二方向上，使所述透光区域以位移量的绝对值向远离所述光轴的方向平行移动，从而使所述透光区域与所述光轴间的距离为由通过所述透光区域的光形成在所述基板上的曝光图案与所述光轴间的距离的A倍，其中，A为大于1的数值，

其中，所述位移量＝(FE1的光量×FE1的照射位置偏离量+……+FEn的光量×FEn的照射位置偏离量)/(FE1的光量+……+FEn的光量)。

2.根据权利要求1所述的光照射装置，其特征在于，包括：

平台，其载置所述基板；以及

掩模移动部，其使所述掩模沿与所述平台的上表面大致正交的方向移动。

3.根据权利要求1或2所述的光照射装置，其特征在于，

所述光源具有射出光的灯和在所述灯的背面侧设置的反射镜，

所述光照射装置包括使所述灯沿所述光轴移动的灯移动部。