[发明专利]光照射装置

说明书

本发明涉及一种光照射装置，该光照射装置能够使原本应形成曝光图案的位置与实际曝光的曝光图案的位置一致。在与第一方向(x方向)大致正交的第二方向(y方向)上，在掩模(32)上形成的透光区域(32a)与光轴(Ax)间的距离为由通过透光区域(32a)的光形成在基板(W)上的曝光图案与光轴(Ax)间的距离的A(A为1以上的数值)倍。

技术领域

本发明涉及光照射装置。

背景技术

专利文献1中公开了一种光照射装置，其将从灯放出的光以椭圆聚光镜聚光，使其通过输入透镜、偏振元件、积分器透镜、准直透镜等，将准直透镜射出的平行光经由掩模向工件照射，按划分像素进行光取向。

专利文献2中公开了一种曝光装置，其包括：光源，其向工件照射光；偏振元件，其使从光源向工件照射的光对应于偏振光成分分支；第一均匀化部，其设置在光源与偏振元件之间，使从光源射入的光的光强度分布均匀；第一平行化部，其设置在第一均匀化部与偏振元件之间，使得通过第一均匀化部使光强度分布均匀的光成为平行光；第二均匀化部，其设置在第一平行化部与偏振元件之间，为了接收通过第一平行化部成为平行光的均匀的光强度分布的光并使射入针对偏振元件的各入射点的光的射入角均匀，使聚焦于各入射点的多个入射光的光强度均匀；以及第二平行化部，其设置在第二均匀化部与偏振元件之间，使得通过第二均匀化部使多个入射光的光强度均匀的光成为平行光。第一均匀化部及第二均匀化部使用复眼透镜，第一平行化部及第二平行化部使用聚光透镜。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11-194345号公报

专利文献2：日本特开2013-167832号公报

发明内容

发明要解决的课题

在专利文献1所记载的光照射装置中，利用椭圆聚光镜聚光后的光的强度分布并不均匀，通过准直透镜的光没有严格地成为平行光，相对于光轴倾斜的光被照射到工件上。图17是说明照射相对于光轴倾斜的光时的曝光图案的位置偏移的图。相对于光轴倾斜的光L2在通过光掩模111的掩模图案的开口部111a时，在工件W上曝光的曝光图案的位置P2相对于原本应形成的位置P1(平行于光轴的光L1通过开口部111a时在工件W上曝光的曝光图案的位置)偏移。特别地，在针对高分辨率显示器用的基板进行光取向时，即使曝光图案的位置偏移很小也会出现问题。

在专利文献2所记载的发明中，由于使用第一均匀化部、第一平行化部、第二均匀化部及第二平行化部使光的强度分布均匀化并向工件照射平行光，因此能够使原本应形成曝光图案的位置与实际曝光的曝光图案的位置一致。但是，在专利文献2所记载的发明中，由于必须使用两个均匀化部(复眼透镜)，因此导致装置大型化且制造成本增加。

本发明是鉴于这种情况提出的，目的在于提供一种能够仅以一组均匀化部及平行化部使原本应形成曝光图案的位置与实际曝光的曝光图案的位置一致的光照射装置。

用于解决课题的方案

为了解决上述课题，本发明的光照射装置例如沿基板的第一方向以带状形成曝光图案，其特征在于，包括：光源，其射出光；掩模，其在与光轴不交叉的位置形成有沿所述第一方向的带状的透光区域；准直机构，其使从所述光源射出的光成为平行光并向所述掩模照射；以及复眼透镜，其配置在所述光源与所述准直机构之间，使向所述掩模照射的光的强度分布均匀，在与所述第一方向大致正交的第二方向上，所述透光区域与所述光轴间的距离为由通过所述透光区域的光形成在所述基板上的曝光图案与所述光轴间的距离的A(A为1以上的数值)倍。