[发明专利]高折射率膜及光学干涉膜有效
| 申请号： | 201880022092.X | 申请日： | 2018-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN110476091B | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 安田英纪;松野亮;原田基 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;G02B1/111;G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 张志楠;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 折射率 光学 干涉 | ||
1.一种光学干涉膜，其包含高折射率膜，所述高折射率膜具有：
基材；
包含粘合剂和扁平状金属粒子、在波长10μm下的折射率为3以上的高折射率层；及
在波长10μm下的折射率小于1.7的低折射率层，
所述扁平状金属粒子的平均粒径除以平均厚度而得到的值为3以上，
所述扁平状金属粒子的主平面相对于所述基材的表面在0°～30°的范围面取向，
所述扁平状金属粒子在高折射率层中的体积分数为20体积％以上，
所述扁平状金属粒子层叠有2层以上。
2.根据权利要求1所述的光学干涉膜，其中，
所述扁平状金属粒子在所述基材的表面方向上随机地排列。
3.根据权利要求1所述的光学干涉膜，其中，
所述扁平状金属粒子至少包含银。
4.根据权利要求1所述的光学干涉膜，其中，
所述扁平状金属粒子的主平面的形状为六边形以上的多边形或圆形。
5.根据权利要求1所述的光学干涉膜，其中，
所述扁平状金属粒子显示出局部表面等离子共振，且在0.5μm～5μm的波长区域具有等离子共振波长。
6.根据权利要求1所述的光学干涉膜，其中，
所述粘合剂包含聚合物。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的光学干涉膜，其为防反射膜。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的光学干涉膜，其为增反射膜。
9.根据权利要求1至6中任一项所述的光学干涉膜，其为带通滤光片或长通滤光片。
10.根据权利要求1至6中任一项所述的光学干涉膜，所述高折射率层在波长10μm下的折射率为5以上。
11.根据权利要求1至6任一项所述的光学干涉膜，所述扁平状金属粒子的平均粒径为50nm～2,000nm。
12.根据权利要求1至6任一项所述的光学干涉膜，所述扁平状金属粒子的平均厚度为50nm以下。
13.根据权利要求1至6任一项所述的光学干涉膜，所述高折射率层的厚度为0.01μm～2μm。
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