[发明专利]高折射率膜及光学干涉膜有效

专利信息
申请号: 201880022092.X 申请日: 2018-03-02
公开(公告)号: CN110476091B 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 安田英纪;松野亮;原田基 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G02B1/111;G02B5/08
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 张志楠;庞东成
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 折射率 光学 干涉
【说明书】:

本发明提供一种高折射率膜及使用了上述高折射率膜的光学干涉膜,该高折射率膜具有包含粘合剂和扁平状金属粒子的高折射率层,上述扁平状金属粒子的平均粒径除以平均厚度而得到的值为3以上,上述扁平状金属粒子的主平面相对于高折射率层的表面在0°~30°的范围面取向,上述扁平状金属粒子在高折射率层中的体积分数为20体积%以上,上述扁平状金属粒子层叠有2层以上。

技术领域

本发明涉及一种高折射率膜及光学干涉膜。

背景技术

近年来,在红外线照相机、红外线加热器、隔热薄膜等器件中,控制红外线的波长的重要性逐渐提高。

例如,在红外线照相机中使用由空气中的水分引起的吸收的影响少的选择性地透射8μm~14μm的波长的红外光的光学干涉膜。

这样的光学干涉膜通过层叠高折射率材料和低折射材料来进行设计。这种高折射率材料与低折射材料之间的折射率差越大,作为光学干涉膜的性能越得到提高,因此研究制造折射率更高的高折射率材料。

例如,在下述专利文献1中记载有一种红外光用防反射膜,其在硅基板上以层叠状态形成多个薄膜而成,所述红外光用防反射膜的特征在于,如下构成:在上述硅基板的至少一个面从上述硅基板侧依次层叠有锗层、硫化锌层、锗层、硫化锌层及氟化钇层,以在6~12μm附近的红外波长区域中成为90%以上的透射特性的方式设定这些各层各自的光学膜厚。

并且,在下述非专利文献1中记载有一种利用了超材料(Meta-material)的高折射率膜。

以往技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2007-298661号公报

非专利文献1:ChoiM,Lee SH,Kim Y,Kang SB,Shin J,Kwak MH,Kang KY,Lee YH,Park N and Min B,A terahertz metamaterial with unnaturally high refractiveindex,Nature,470,369-373.

发明内容

发明要解决的技术课题

本发明人等发现了在专利文献1中所记载的使用了锗的防反射膜中需要通过蒸镀或溅射等气相成膜来制造防反射膜,存在生产率低的问题。

并且,本发明人等发现了在非专利文献1中所记载的超材料结构中需要通过光刻等方法来进行制造,仍存在生产率低的问题。

本发明的实施方式要解决的课题在于提供一种高折射率且能够通过液相成膜来成膜的高折射率膜及使用了上述高折射率膜的光学干涉膜。

用于解决技术课题的手段

用于解决上述课题的方法包括以下方式。

<1>一种高折射率膜,其具有基材及包含粘合剂和扁平状金属粒子的高折射率层,上述扁平状金属粒子的平均粒径除以平均厚度而得到的值为3以上,上述扁平状金属粒子的主平面相对于上述基材的表面在0°~30°的范围面取向,

上述扁平状金属粒子在高折射率层中的体积分数为20体积%以上,上述扁平状金属粒子层叠有2层以上。

<2>根据上述<1>所述的高折射率膜,其中,上述扁平状金属粒子沿上述基材的表面方向随机地排列。

<3>根据上述<1>或<2>所述的高折射率膜,其中,上述扁平状金属粒子至少包含银。

<4>根据上述<1>至<3>中任一项所述的高折射率膜,其中,上述扁平状金属粒子的主平面的形状为六边形以上的多边形或圆形。

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