[发明专利]功率模块及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201880022963.8 申请日: 2018-03-28
公开(公告)号: CN110476244A 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 畑野舞子;大塚拓一 申请(专利权)人: 罗姆股份有限公司
主分类号: H01L23/36 分类号: H01L23/36;H01L21/52;H01L21/60;H01L23/12;H01L29/12;H01L29/739;H01L29/78
代理公司: 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 陈彦;张默<国际申请>=PCT/JP20
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 应力缓和 金属层 半导体器件 厚铜层 接合 厚铜 基板 配置 功率模块 镀层 导电性 固相扩散 扩散接合 接合面 平板状 固着 热阻 嵌入 一体化
【说明书】:

功率模块(1)具备平板状的厚铜基板(2)、配置在厚铜基板(2)上的导电性的应力缓和金属层(24U)、配置在应力缓和金属层(24U)上的半导体器件(22)和配置在应力缓和金属层(24U)上的镀层(30),半导体器件(22)隔着镀层(30)与应力缓和金属层(24U)接合。厚铜基板(2)具备第1厚铜层(14)和配置在第1厚铜层(14)上的第2厚铜层(18),应力缓和金属层(24U)配置在第2厚铜层(18)上。半导体器件(22)的一部分嵌入应力缓和金属层(24U)并固着。半导体器件(22)与应力缓和金属层(24U)的接合面通过扩散接合或固相扩散接合而一体化。提供一种能够不增加热阻而提高接合的可靠性的功率模块。

技术领域

本实施方式涉及功率模块及其制造方法。

背景技术

作为功率模块的一种,以往已知下述功率模块:在包含绝缘栅双极晶体管(IGBT:Insulated Gate Bipolar Transistor)那样的功率元件(芯片)的半导体器件外围,用树脂成型。

工作状态下,半导体器件发热,因此一般在基板的背面侧配置散热片、散热鳍等散热器而散热,将半导体器件冷却。

尤其是近年来,为了低热阻化,基板部的厚铜化正在不断推进。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2015-195415号公报

非专利文献

非专利文献1:梨子田典弘、日向裕一朗、堀尾真史,“All-SiC模块技术”,富士电机技报,2012,第85卷,第6号,第403(15)-407(19)页。

发明内容

发明所要解决的课题

然而,基板的厚铜化中,接合的可靠性堪忧。

本实施方式提供能够不增加热阻而提高接合的可靠性的功率模块及其制造方法。

用于解决课题的方法

根据本实施方式的一个方式,提供一种功率模块,其特征在于,具备平板状的厚铜基板、配置在前述厚铜基板上的导电性的应力缓和金属层和配置在前述应力缓和金属层上的半导体器件,前述半导体器件与前述应力缓和金属层接合。

根据本实施方式的另一方式,提供一种功率模块,具备平板状的第1厚铜层、配置在前述第1厚铜层上的绝缘片层、配置在前述绝缘片层上且形成有图案的第2厚铜层、配置在前述第2厚铜层上的第1铝缓和层和配置在前述第1铝缓和层上的半导体器件,前述半导体器件与前述应力缓和金属层接合。

根据本实施方式的另一方式,提供一种功率模块的制造方法,具有:在第2厚铜层上形成第1铝缓和层的工序,在第1厚铜层上隔着绝缘片层配置前述第2厚铜层的工序,在前述第1铝缓和层上配置半导体器件、通过一边加热一边加压的加热-加压工艺使前述半导体器件与前述第1铝缓和层接合的工序,以及使前述半导体器件的电极与外部端子连接的工序。

根据本实施方式的另一方式,提供一种功率模块的制造方法,具有:在第2厚铜层上形成第1铝缓和层的工序,在前述第1铝缓和层上配置半导体器件、通过一边加热一边加压的加热-加压工艺使前述半导体器件与前述第1铝缓和层接合的工序,在第1厚铜层上隔着绝缘片层配置前述第2厚铜层的工序,以及使前述半导体器件的电极与外部端子连接的工序。

发明的效果

根据本实施方式,可以提供能够不增加热阻而提高接合的可靠性的功率模块及其制造方法。

附图说明

图1中,(a)为实施方式涉及的功率模块中能够应用的厚铜基板的示意性截面结构图,(b)为实施方式涉及的功率模块中能够应用的另一厚铜基板的示意性截面结构图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗姆股份有限公司,未经罗姆股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880022963.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top