[发明专利]吡啶化合物的制造方法

权利要求书

1.一种式(4)所示的化合物的制造方法，其包括：

使式(2)所示的化合物与选自醌系氧化剂、N-卤代琥珀酰亚胺系氧化剂、超价碘系氧化剂及N-氧化物中的有机系氧化剂进行反应的工序，

式(2)中，

Q表示吡啶基、嘧啶基、吡嗪基或哒嗪基，该吡啶基、该嘧啶基、该吡嗪基及该哒嗪基分别独立地任选具有1个以上对氧化反应不活泼的取代基，

R¹表示任选具有1个以上卤素原子的C1-C6烷基，

R²表示任选具有1个以上卤素原子的C1-C6烷基，

R³表示C1-C6烷基、芳基、杂芳基、OR¹⁰、NR¹⁰R¹¹、NR¹⁰OR¹¹、S(O)_yR¹⁰、NR¹⁰C(O)R¹¹、NR¹⁰C(O)OR¹¹、卤素原子或氢原子，该C1-C6烷基、该芳基及该杂芳基分别独立地任选具有1个以上对氧化反应不活泼的取代基，

R⁴及R⁵相同或不同，表示任选具有1个以上卤素原子的C1-C6烷基、芳基、杂芳基或氢原子，该芳基及该杂芳基分别独立地任选具有1个以上对氧化反应不活泼的取代基，

R¹⁰及R¹¹相同或不同，表示任选具有1个以上对氧化反应不活泼的取代基的C1-C6烷基，而且，

n及y分别独立地表示0、1或2，

式(4)中，符号表示与上述相同的含义。

2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，R³为OR¹⁰、NR¹⁰R¹¹、NR¹⁰OR¹¹、S(O)_yR¹⁰或氢原子，R⁴及R⁵为氢原子。

3.根据权利要求1所述的制造方法，其中，

R¹为乙基，R²为C1-C6烷基，R³为氢原子或苄氧基，R⁴及R⁵为氢原子，n为2，而且Q为吡啶基、嘧啶基、吡嗪基或哒嗪基，这些基团各自任选被卤素原子或C1-C6烷氧基取代，该C1-C6烷氧基任选被1个以上卤素原子取代。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其中，

有机系氧化剂为式(7)所示的对醌系氧化剂、式(8)所示的邻醌系氧化剂或N-卤代琥珀酰亚胺系氧化剂，

式(7)中，R⁶、R⁷、R⁸及R⁹分别独立地表示氢原子、甲基、叔丁基、卤素原子或氰基，

式(8)中，符号表示与上述相同的含义。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的制造方法，其包括：

使式(6)所示的化合物及式(3)所示的化合物在R²OH所示的醇的存在下进行反应，得到式(2)所示的化合物的工序，

式(6)中，符号表示与上述相同的含义，

式(3)中，符号表示与上述相同的含义，

式R²OH中，符号表示与上述相同的含义。