[发明专利]涂敷处理装置、涂敷处理方法和光学膜形成装置

权利要求书

1.一种在基片上涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理装置，其特征在于，包括：

基片移动部，其能够保持所述基片并使其在水平的一个方向上移动；

长条状的涂敷喷嘴，其在与所述基片移动部的移动方向正交的方向上延伸，对所述基片移动部所保持的所述基片排出所述涂敷液；

涂敷喷嘴移动部，其能够使所述涂敷喷嘴在所述涂敷喷嘴的延伸方向上移动；和

控制部，其通过控制所述基片移动部和所述涂敷喷嘴移动部的移动速度，来控制对所述基片移动部所保持的所述基片进行涂敷的涂敷方向，以对所述涂敷液施加规定的一个方向上的剪切应力，使所述涂敷液中的光学材料的分子在该一个方向取向，

所述涂敷喷嘴的所述正交的方向上的长度大于所述基片的所述正交的方向上的宽度。

2.如权利要求1所述的涂敷处理装置，其特征在于：

还包括回收部，其配置在所述涂敷喷嘴的下方，回收从所述涂敷喷嘴排出到所述基片移动部所保持的所述基片的外侧的涂敷液。

3.如权利要求2所述的涂敷处理装置，其特征在于：

所述回收部分体地配置在长条状的所述涂敷喷嘴的一端和另一端的下方。

4.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷处理装置，其特征在于：

还包括基片周缘处理部，其对涂敷处理中的所述基片的周缘进行规定的处理。

5.如权利要求4所述的涂敷处理装置，其特征在于：

所述基片周缘处理部是清洗涂敷处理中的所述基片的周缘的清洗处理部。

6.如权利要求4所述的涂敷处理装置，其特征在于：

所述基片周缘处理部是调节涂敷处理中的所述基片的周缘的涂敷膜的膜厚的周缘膜厚调节部。

7.如权利要求1所述的涂敷处理装置，其特征在于：

所述控制部一边利用所述基片移动部使所述基片在所述移动方向上移动，一边使所述涂敷喷嘴在所述正交的方向上移动并对所述基片排出所述涂敷液。

8.一种在基片上涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理方法，其特征在于，包括：

将以大于所述基片的宽度的方式延伸的长条状的涂敷喷嘴配置在所述基片的一端的第一步骤；

使所述涂敷液从所述涂敷喷嘴排出的第二步骤；和

通过一边使排出着所述涂敷液的所述涂敷喷嘴在所述涂敷喷嘴的延伸方向上移动，一边在与所述延伸方向正交的方向上使所述基片移动，来对所述涂敷液施加规定的一个方向上的剪切应力并对该基片进行涂敷处理，以使得所述涂敷液中的光学材料的分子在该一个方向取向的第三步骤。

9.一种在基片上形成光学膜的光学膜形成装置，其特征在于，包括：

权利要求1～7中任一项所述的涂敷处理装置；

干燥处理装置，其使光学膜干燥，该光学膜由所述涂敷处理装置所涂敷的所述涂敷液形成；

膜固定装置，其在所述光学膜的规定区域涂敷所述光学膜的固定材料；和

膜除去装置，其将没有涂敷所述固定材料的区域的所述光学膜除去。