[发明专利]超纯水制造系统及超纯水制造方法

权利要求书

1.一种超纯水制造系统，其特征在于，其是将包含硼成分和总有机碳成分的被处理水进行处理而制造超纯水的超纯水制造系统，其依次具备：

对所述被处理水以0.05kWh/m³～0.2kWh/m³的紫外线照射量照射紫外线的第1紫外线氧化装置；

具有将硼吸附树脂及阴离子交换树脂混合而成的硼吸附阴离子交换混床树脂、且将通过所述第1紫外线氧化装置照射紫外线后的被处理水进行处理的硼吸附树脂混合离子交换装置；

对通过所述硼吸附树脂混合离子交换装置处理后的所述被处理水照射紫外线的第2紫外线氧化装置；和

将通过所述第2紫外线氧化装置照射紫外线后的所述被处理水进行处理的非再生型混床式离子交换树脂装置。

2.根据权利要求1所述的超纯水制造系统，其特征在于，关于所述硼吸附阴离子交换混床树脂中的所述硼吸附树脂及所述阴离子交换树脂的混合比例，将所述阴离子交换树脂的交换容量设为“C_A”、将所述硼吸附树脂的交换容量设为“C_B”，C_A/C_B为0.2～5。

3.根据权利要求1或2所述的超纯水制造系统，其特征在于，所述硼吸附树脂混合离子交换装置具有在所述硼吸附阴离子交换混床树脂中进一步混合阳离子交换树脂而成的硼吸附阳离子交换阴离子交换混床树脂。

4.根据权利要求3所述的超纯水制造系统，其特征在于，关于所述硼吸附阳离子交换阴离子交换混床树脂中的硼吸附树脂、阴离子交换树脂及阳离子交换树脂的混合比例，将所述阴离子交换树脂的交换容量设为“C_A”、将所述硼吸附树脂的交换容量设为“C_B”、将所述阳离子交换树脂的交换容量设为“C_C”，C_C/(C_A+C_B)为0.3～1.3。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的超纯水制造系统，其特征在于，在所述第1紫外线氧化装置的上游侧依次具备反渗透膜装置和电去离子装置。

6.根据权利要求5所述的超纯水制造系统，其特征在于，所述电去离子装置中的每1单元对处理流量的电流值为30A/(m³/h)以上。

7.根据权利要求5或6所述的超纯水制造系统，其特征在于，所述反渗透膜装置中的膜阻力为45MPa/(m/h)以上。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的超纯水制造系统，其特征在于，所述硼吸附树脂混合离子交换装置的处理水中的总有机碳浓度以C计为5μg/L以下。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的超纯水制造系统，其特征在于，所述非再生型混床式离子交换树脂装置的处理水中的总有机碳浓度以C计低于0.5μg/L，硼浓度低于0.5ng/L。

10.一种超纯水制造方法，其特征在于，其是将包含硼成分和总有机碳成分的被处理水进行处理而制造超纯水的超纯水制造方法，其包括：

通过第1紫外线氧化装置，将紫外线照射量设定为0.05kWh/m³～0.2kWh/m³而将所述被处理水进行处理的工序；

将所述第1紫外线氧化装置的处理水通过具有将硼吸附树脂及阴离子交换树脂混合而成的硼吸附阴离子交换混床树脂的硼吸附树脂混合离子交换装置进行处理的工序；

将所述硼吸附树脂混合离子交换装置的处理水通过第2紫外线氧化装置进行处理的工序；和

将所述第2紫外线氧化装置的处理水通过非再生型混床式离子交换树脂装置进行处理的工序。