[发明专利]超纯水制造系统及超纯水制造方法

说明书

本发明提供一种超纯水制造系统，其是具备硼吸附树脂混合离子交换树脂的超纯水制造系统，其能够长时间得到硼浓度及TOC浓度低的高水质的超纯水。超纯水制造系统是将包含硼成分和总有机碳成分的被处理水进行处理而制造超纯水的超纯水制造系统，其依次具备：对被处理水以0.05kWh/m³～0.2kWh/m³的紫外线照射量照射紫外线的第1紫外线氧化装置；具有将硼吸附树脂及阴离子交换树脂混合而成的硼吸附阴离子交换混床树脂的硼吸附树脂混合离子交换装置；第2紫外线氧化装置；和非再生型混床式离子交换树脂装置。

技术领域

本发明涉及超纯水制造系统及超纯水制造方法。

背景技术

以往，在半导体制造工序中使用的超纯水使用超纯水制造系统来制造。超纯水制造系统例如由将原水中的悬浮物质除去的前处理装置、将前处理水中的总有机碳(TOC)成分或离子成分使用反渗透膜装置或离子交换装置除去的一次纯水系统及将一次纯水中的极微量的杂质除去的二次纯水系统构成。作为原水，除了使用市水、井水、地下水、工业用水等以外，还可使用在使用点(POU：Point Of Use)被回收的使用完的超纯水(以下，称为“回收水”)。

关于超纯水，对高纯度化的要求逐年提高，对于各种杂质浓度，例如已经要求除去至ng/L(ppt)等级。因此，例如，出于降低TOC的目的，正在进行在一次纯水系统及二次纯水系统中分别设置将TOC成分分解的紫外线氧化装置(TOC-UV)与将残留在紫外线氧化装置的处理水中的低分子量的有机酸或二氧化碳吸附除去的混床式离子交换树脂装置的组合(例如参照专利文献1)。

另外，作为极微量的杂质，例如要求减少硼。因此，出于提高硼除去能力的目的，提出了使用了将硼选择性离子交换树脂与混床式离子交换树脂层叠或混合而填充的离子交换树脂塔的超纯水制造系统(例如参照专利文献2)。

另外，紫外线氧化装置的处理水中包含的低分子量的有机酸等会阻碍硼选择性离子交换树脂中的硼的吸附，硼除去能力在早期降低。出于防止这样的不良情况、长时间维持优异的硼除去能力的目的，还提出了使用了将硼选择性离子交换树脂与阴离子交换树脂混合而成的混床式的离子交换树脂(以下，也称为“硼吸附树脂混合离子交换树脂”)的超纯水制造系统(例如参照专利文献3)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-025184公报

专利文献2：日本特开平8-84986号公报

专利文献3：日本特开2016-047496公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，通过本发明者们的研究发现，在紫外线氧化装置的后段配置硼吸附树脂混合离子交换树脂的情况下，由于在紫外线氧化装置中因过量的紫外线照射而产生的过氧化氢将硼吸附树脂混合离子交换树脂分解而导致低分子量的有机物大量溶出，下游侧的水处理装置中的TOC除去负荷变高。进而还获知，在该情况下，在硼吸附树脂混合离子交换树脂的下游所具备的非再生型混床式离子交换树脂的劣化在早期进行，超纯水的长期制造变得困难。

本发明是为了解决上述的课题而进行的，目的是提供超纯水制造系统和超纯水制造方法，所述超纯水制造系统具备硼吸附树脂混合离子交换树脂，其能够长时间得到高水质的超纯水。

用于解决课题的手段