[发明专利]使用具备吸附层的研磨垫的研磨方法在审
| 申请号： | 201880028532.2 | 申请日： | 2018-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN110573300A | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 矢岛利康;二宫大辅 | 申请（专利权）人： | 丸石产业株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/22 | 分类号： | B24B37/22;B32B27/00;B32B27/12;H01L21/304 |
| 代理公司： | 72003 隆天知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李慧慧;向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 固定盘 研磨垫 表面粗糙度 研磨 吸附层 被研磨物 聚硅氧 直链状聚有机硅氧烷 方式调整 吸附固定 接合 乙烯基 滑动 优选 加压 粗糙 伤痕 预测 | ||
【权利要求书】：
1.一种研磨方法，是将研磨垫固定于固定盘后，对所述研磨垫一边加压被研磨物一边使其滑动而进行研磨，其中，
所述研磨垫包含用以吸附并固定于所述固定盘的吸附层、及用以研磨所述被研磨物的研磨层；
所述吸附层包含使选自下列至少1种的聚硅氧交联而成的组合物:包含仅在两末端具有乙烯基的直链状聚有机硅氧烷的聚硅氧、包含在两末端及侧链具有乙烯基的直链状聚有机硅氧烷的聚硅氧、包含仅在末端具有乙烯基的分支状聚有机硅氧烷的聚硅氧、及包含在末端及侧链具有乙烯基的分支状聚有机硅氧烷的聚硅氧；
将所述固定盘的表面粗糙度(Ra)设为0.01至0.7μm之后，将所述研磨垫的吸附层吸附固定于所述固定盘。
2.根据权利要求1所述的研磨方法，是将表面粗糙度(Ra)为0.01至0.7μm的膜接合于固定盘的表面，并且将研磨垫的吸附层吸附固定。
3.根据权利要求1或2所述的研磨方法，其中，研磨垫的吸附层其表面粗糙度的平均值(Sa)为0.02至0.06μm。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的研磨垫，其中，吸附层的厚度为20至30μm。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的研磨方法，其中，研磨垫在吸附层与研磨层之间具备基材，所述基材包含破断强度210至290MPa、破断伸度80至130％的树脂。
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