[发明专利]沉淀二氧化硅及其制造方法

权利要求书

1.一种沉淀二氧化硅，其特征在于：

-至少一种选自由B、Al、Ga及其混合物组成的组的元素M的量在从0.5至30.0mol％的范围内；

-红外吸收光谱具有在1538与1559cm^-1之间的至少一个峰以及在1612与1635cm^-1之间的一个峰，所述光谱已在用吡啶化学吸附至饱和随后在真空下在25℃下处理之后测量，其中比率(在1538与1559cm^-1之间的峰下的面积)/(在1612与1635cm^-1之间的峰下的面积)是小于0.80。

2.如权利要求1所述的沉淀二氧化硅，其中，该在1538与1559cm^-1之间的峰下的面积是至少0.02cm^-1。

3.如前述权利要求中任一项所述的沉淀二氧化硅，其中，该在1612与1635cm^-1之间的峰下的面积是至少0.03cm^-1。

4.如前述权利要求中任一项所述的沉淀二氧化硅，其中，该至少一种元素M选自由Al和Ga组成的组。

5.如前述权利要求中任一项所述的沉淀二氧化硅，其中，该至少一种元素M的量是在从0.7至25.0mol％、甚至0.8至25.0mol％的范围内。

6.如前述权利要求中任一项所述的沉淀二氧化硅，其特征在于，从40至800m²/g、优选从50至450m²/g的BET表面积S_BET。

7.一种用于制备如权利要求1至5中任一项所述的沉淀二氧化硅的方法，该方法包括使硅酸盐与酸反应以产生沉淀二氧化硅的悬浮液，所述反应包括至少一个步骤，其中将硅酸盐或者元素M的至少一种化合物添加到反应介质中同时该反应介质是在从2.0至6.0、优选从3.0至5.0的pH下，并且其中在将该反应所需的按重量计总量的至少50％的硅酸盐已经添加到所述反应介质中之后将元素M的该至少一种化合物添加到该反应介质中。

8.如权利要求6所述的方法，所述方法包括以下步骤：

(i)提供具有等于或大于7.0的pH的起始溶液；

(ii)通过同时将硅酸盐和酸添加到所述起始溶液中或者通过将酸添加到所述起始溶液中将该反应介质的pH降低至低于7.0的值；以及

(iii)向该反应介质中同时添加硅酸盐和酸，使得该反应介质的pH保持在从2.0至6.0的范围内以获得沉淀二氧化硅的悬浮液，

其中在步骤(ii)和/或(iii)期间将元素M的至少一种化合物添加到该反应介质中，其前提是在将该反应所需的按重量计总量的至少50％的硅酸盐已经添加到该反应介质中之后进行此添加。

9.如权利要求6所述的方法，所述方法包括以下步骤：本发明方法包括以下步骤：

(i’)提供具有等于或大于7.0的pH的起始溶液；

(ii’)通过同时将硅酸盐和酸添加到所述起始溶液中或者通过将酸添加到所述起始溶液中将该反应介质的pH降低至低于7.0的值；以及

(iii，)向该反应介质中同时添加酸和元素M的至少一种化合物，使得该反应介质的pH保持在从2.0至6.0的范围内以获得沉淀二氧化硅的悬浮液，其前提是在将该反应所需的按重量计总量的至少50％的硅酸盐已经添加到该反应介质中之后进行此添加。

10.如权利要求7或8所述的方法，其中，当M为B或Ga时，在步骤(iii)和(iii’)之后进行以下附加步骤：

(iv)停止添加该酸，并将该反应介质的pH提高至从7.0至10.0的值；

(v)以这样的方式向该反应介质中同时添加酸和硅酸盐，使得该反应介质的pH在7.5与9.5之间；以及

(vi)停止添加该硅酸盐，同时向该反应介质中继续添加该酸以达到该反应介质的小于6.0的pH以获得沉淀二氧化硅的悬浮液。