[发明专利]防尘透镜及其制造方法

说明书

本发明的目的在于提供透明性不会受损且防尘性能得以提高的防尘透镜及其制造方法。防尘透镜的特征在于，在玻璃透镜的表面上至少形成有导电性膜，所述导电性膜通过由TiO₂以及Ti₃O₅中的至少一个形成的氧化钛的单层或者含有50％以上的所述氧化钛的混合层形成，所述导电性膜的膜厚为1nm以上，所述导电性膜的面内方向的结晶粒径为200nm以上。

技术领域

本发明涉及一种防尘透镜及其制造方法。

背景技术

一般情况下，光学玻璃由于电阻率高而容易带电。因此，存在如下问题：容易在使用光学玻璃的透镜的表面上附着灰尘。带电的灰尘一旦附着在透镜表面上便难以清除，给通过使用透镜的光学系统形成的图像带来不良影响。

在下述的专利文献中公开了一种具有防带电性能的光学部件，其通过在基板的表面上形成当量不足的氧化钛膜而形成。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-243601号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

但是，如专利文献1所示，如果氧化钛缺乏氧的话，则氧化钛膜接近于金属。因此，存在膜的透光率降低、透明性受损的问题。

本发明是基于以上的问题意识而完成的，其目的在于提供一种透明性不会受损且防尘性能得以提高的防尘透镜及其制造方法。

用于解决技术问题的技术方案

本发明的防尘透镜，其特征在于，在玻璃透镜的表面上至少形成有导电性膜，所述导电性膜通过由TiO₂以及Ti₃O₅中的至少一个形成的氧化钛的单层或者含有50％以上的所述氧化钛的混合层形成，所述导电性膜的膜厚为1nm以上，所述导电性膜的面内方向的结晶粒径为200nm以上。

在本发明中，可以在所述玻璃透镜的表面上形成所述导电性膜的单层膜。

在本发明中，优选的是，在所述玻璃透镜的表面上形成有包含所述导电性膜的防反射膜，所述防反射膜的最外层由折射率低于所述玻璃透镜的低折射率膜形成。

在本发明中，优选的是，在所述玻璃透镜的表面上形成的膜的表面电阻为10¹³(Ω/口)以下。

本发明的防尘透镜的制造方法，其特征在于，包括在玻璃透镜的表面上至少形成导电性膜的工序，在形成所述导电性膜的工序中，以1nm以上的膜厚且面内方向的结晶粒径为200nm以上的方式，形成由TiO₂以及Ti₃O₅中的至少一个构成的氧化钛的单层、或者含有50％以上的所述氧化钛的混合层。

在本发明中，优选的是，通过气相沉积法成膜所述导电性膜时的基板加热温度为250℃以上。

在本发明中，优选的是，在5.0×10^-3Pa以上的气压下导入成膜所述导电性膜时的氧气。

(发明的效果)

根据本发明，能够提供透明性不会受损且防尘性能得以提高的防尘透镜及其制造方法。

附图说明

图1为本实施方案的防尘透镜的示意图。

图2为第一实施方案的防尘透镜的部分放大示意图。

图3为第二实施方案的防尘透镜的部分放大示意图。

图4为实施例1的SEM图片。

图5为图4的部分示意图。