[发明专利]带电粒子源模块有效
申请号: | 201880031355.3 | 申请日: | 2018-04-10 |
公开(公告)号: | CN110622276B | 公开(公告)日: | 2022-07-08 |
发明(设计)人: | L·迪努-格尔特勒;E·P·霍杰沃斯特;J·范索伊斯特 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | H01J1/88 | 分类号: | H01J1/88;H01J37/065 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 李兴斌 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带电 粒子 模块 | ||
本发明涉及一种用于产生和发射诸如电子束之类的带电粒子束的带电粒子源模块,包括:框架,其包括第一框架部分、第二框架部分以及布置在所述第一框架部分和所述第二框架部分之间的一个或多个刚性支撑构件;用于产生诸如电子束的带电粒子束的带电粒子源装置,其中诸如电子源的所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分处;以及布置在所述第一框架部分处的电力连接组件,其中所述带电粒子源装置经由电线电连接至所述连接组件。
技术领域
本发明涉及一种用于产生和发射带电粒子束的带电粒子源模块。本发明还涉及一种具有所述带电粒子源模块的曝光系统、带电粒子源装置、用于制造半导体器件的方法以及用于检查目标的方法。
背景技术
带电粒子源被布置用于产生和发射带电粒子束,该带电粒子束可以朝着表面或目标而被引导。已知的带电粒子源包括源阴极和位于所述源阴极下游的多个电极。
从申请人的WO 2015/101538 A1中已知带电粒子源,其中在光刻曝光系统中应用了该源。带电粒子源包括阴极装置,该阴极装置包括:热电子阴极,该热电子阴极包括提供有用于发射电子的发射表面的发射部分和用于容纳材料的贮存器,其中材料在被加热时释放出功函数降低的粒子,其朝发射部分扩散,并以第一蒸发率在发射表面发出;聚焦电极,该聚焦电极包括用于聚焦从阴极的发射表面发射的电子的聚焦表面;以及热源,被配置用于加热储存在贮存器中的材料。
从Proc.Of SPIE Vol.8680,86800O-1至-12中可知另一种带电粒子源,见图6、图7和图8。
已知的带电粒子源除了在诸如带电粒子光刻系统之类的带电粒子曝光系统中使用之外,还被应用于带电粒子检查系统或显微镜中。至少在这些应用中,带电粒子源的各个部件必须相对于彼此被精确对准。另外,将带电粒子源的各个部件连接到对应的电源布置很麻烦,并且必须小心执行以免干扰带电粒子源的各个部件相对于彼此的对准。
本发明的一个目的是改善或消除现有技术的一个或多个缺点,或者至少提供一种替代的带电粒子源。
发明内容
根据第一方面,本发明提供了一种用于产生并发射带电粒子束的带电粒子源模块,包括:
-框架,其包括第一刚性框架部分、第二刚性框架部分以及布置在所述第一框架部分和所述第二框架部分之间并与其刚性连接的一个或多个刚性支撑构件;
-用于产生带电粒子束的带电粒子源装置,其中所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分处;和
-布置在所述第一框架部分处的电力连接组件,
其中,所述带电粒子源装置经由电线电连接至所述电力连接组件。
根据本发明的第一方面,所述带电粒子源装置被布置在所述第二框架部分处并且经由电线电连接到所述电力连接组件,所述电力连接组件被布置在所述第一框架部分处。
由于所述电力连接组件被布置在所述第一框架部分处,因此例如在将外部电源连接到所述电力连接组件期间施加到所述电力连接组件的力将被引入到第一框架部分中。引入到第一框架部分中的力将经由刚性支撑构件从所述第一框架部分传递到所述第二框架部分,从而防止所述力作用在所述带电粒子源装置或其个体部件上。由此,提供了应变减轻布置。由于应变减轻布置,所述带电粒子源装置的个体部件相对于彼此的对准和相对位置得以维持。
带电粒子源装置可以被布置用于产生电子束。带电粒子源装置可以包括用于发射电子的发射器装置,从该发射器装置形成电子束。
另外,根据本发明的所述带电粒子源模块的使用可以提供一种鲁棒的布置,其减少或在理想情况下消除例如在所述源模块的运输期间、在将所述源模块安装到曝光系统中期间、以及在将外部电源连接到所述带电粒子源模块期间施用在所述带电粒子源装置上的一个或多个外力。
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