[发明专利]光学活性体的制造方法、光学活性体、手性分子的制造方法及手性分子

权利要求书

1.一种光学活性体的制造方法，其包括通过使不对称诱导剂作用于对映体过量的半衰期在50℃下小于10小时的手性分子来提高所述手性分子的一个对映体的存在比的不对称诱导工序。

2.根据权利要求1所述的光学活性体的制造方法，其中，

通过使所述不对称诱导剂作用于所述手性分子，不伴随所述手性分子内键的裂解或再形成而提高一个对映体的存在比。

3.根据权利要求1或2所述的光学活性体的制造方法，其中，

所述手性分子的一个对映体与另一个对映体中，空间构象彼此不同。

4.根据权利要求2或3所述的光学活性体的制造方法，其中，所述手性分子为平面不对称分子。

5.根据权利要求2或3所述的光学活性体的制造方法，其中，所述手性分子为轴不对称分子，其中，取代联苯分子除外。

6.根据权利要求2或3所述的光学活性体的制造方法，其中，所述手性分子为螺旋不对称分子。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的光学活性体的制造方法，其中，

所述手性分子具有由下述通式(1)～(3)、(4a)、(4b)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9a)、(9b)中的任一个表示的结构，

[化学式1]

在通式(1)中，R¹¹～R¹⁴分别独立地表示氢原子或取代基，X¹¹表示O、S或NR¹⁵，R¹⁵表示取代基，n1表示1～10的整数，

[化学式2]

在通式(2)中，R²¹及R²²分别独立地表示氢原子或取代基，R²³～R²⁶分别独立地表示氢原子或取代基，X¹²表示O、S或NR²⁷，R²⁷表示取代基，n2表示1～10的整数，

[化学式3]

在通式(3)中，R³¹及R³²分别独立地表示取代基，R³³～R³⁷分别独立地表示氢原子或取代基，

[化学式4]

在通式(4a)中，R⁴¹～R⁴³分别独立地表示取代基，n4表示1～10的整数，苯环可以稠合于通式(4a)中的环烯骨架，

[化学式5]

在通式(4b)中，R⁴⁴～R⁴⁸分别独立地表示取代基，

[化学式6]

在通式(5)中，R⁵¹～R⁵⁵分别独立地表示取代基，其中，R⁵⁴及R⁵⁵为彼此不同的基团，

[化学式7]

在通式(6)中，R⁶¹～R⁶⁴为彼此不同的基团，分别独立地表示取代基，

[化学式8]

在通式(7)中，R⁷¹及R⁷²分别独立地表示氢原子或取代基，

[化学式9]

在通式(8)中，R⁸¹及R⁸²分别独立地表示氢原子或取代基，R⁸³表示取代基，

[化学式10]

在通式(9a)及(9b)中，R⁹¹～R⁹⁶分别独立地表示取代基，n91及n92分别独立地表示1～10的整数。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的光学活性体的制造方法，其中，

所述手性分子的外消旋能为20～27kcal/mol。