[发明专利]致动器、线性马达和光刻设备有效

专利信息
申请号: 201880033200.3 申请日: 2018-05-03
公开(公告)号: CN110637410B 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: N·C·P·J·海尔茨;F·斯坦德霍德尔斯;E·G·B·霍夫斯泰 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H02K41/00 分类号: H02K41/00;H02K9/22
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张启程
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 致动器 线性 马达 光刻 设备
【说明书】:

一种致动器,包括线圈、第一冷却板和第二冷却板。所述冷却板被配置为冷却所述线圈。第一冷却板和第二冷却板被布置在线圈的相对侧以与线圈热接触。所述线圈包括第一线圈部分和第二线圈部分,所述第一线圈部分面向所述第一冷却板,所述第二线圈部分面向所述第二冷却板,所述第一线圈部分和所述第二线圈部分被它们之间的间隔分开。所述第一冷却板、所述第一线圈部分、所述间隔、所述第二线圈部分和所述第二冷却板形成叠置结构,其中线圈部分被布置在冷却板之间,并且所述间隔被布置在所述线圈部分之间。所述致动器还包括布置在间隔中的填充元件。填充元件将第一线圈部分推向第一冷却板并且将第二线圈部分推向第二冷却板。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年5月26日提交的欧洲申请17173011.2的优先权,该欧洲申请的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

发明涉及致动器、包括这种致动器的线性马达以及包括这种致动器的光刻设备。

背景技术

光刻设备是一种将期望的图案施加到衬底上(通常在衬底的目标部分上)的机器。例如,光刻设备可以用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下,可以将可替代地被称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于IC的单层上的电路图案。可以将该图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或几个管芯)上。通常,通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常,单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器,其中通过将整个图案一次性地曝光到目标部分上来辐照每个目标部分,以及包括所谓的扫描器,其中通过利用在给定方向(“扫描”方向)上的辐射束扫描该图案来辐照每个目标部分的同时,同步地扫描与该方向平行或反向平行的衬底。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底。

在光刻设备中,可以使用致动器,例如线性马达形式的致动器,以将力施加在可移动部件上,例如用于保持衬底的衬底台或用于保持图案形成装置的支撑件。致动器包括线圈,以在由电流供电时产生磁场。在光刻设备中,以及在其他应用中,可能期望高磁场,例如使得能够用以产生高的致动器力。高的力可使致动器能够容易产生高的加速度水平。

当线圈中的高电流水平增加了线圈中的电耗散时,可以例如在线圈的两侧布置冷却板。冷却板可将热从线圈传导走,从而降低线圈的温度。由于线圈是通过缠绕形成的,因此线圈的整体尺寸可能会显示一定程度的公差。致动器的总尺寸可以被设置为高准确度水平,因为可能需要致动器在例如准确地限定的空间中操作,例如在构成马达一部分的永磁体之间的间隙中。因此,致动器的总尺寸的容许公差可小于线圈的尺寸的公差。结果,线圈和冷却板之间的距离可能遭受相对大的公差。线圈和冷却板之间的距离的公差导致诸如灌封材料之类的中间结构的厚度波动,因此导致线圈和冷却板之间的热阻的相对大的公差。

假设向线圈施加某一电流,在线圈和冷却板之间产生的传热差异可能会导致线圈温度的公差带。当产生的热还导致线圈电阻增加时,这种影响甚至会变得更糟,其可能在过热时会导致故障。因此,应基于热阻情境的最坏情况来保持安全裕度,以避免线圈过热。

发明内容

期望改进致动器的热性能。

根据本发明的一方面,提供了一种致动器,所述致动器包括:

线圈;

第一冷却板和第二冷却板,所述第一冷却板和所述第二冷却板被配置为冷却所述线圈,所述第一冷却板和所述第二冷却板被布置在所述线圈的相对侧以与所述线圈热接触;

其中,所述线圈包括第一线圈部分和第二线圈部分,所述第一线圈部分面向所述第一冷却板,所述第二线圈部分面向所述第二冷却板,所述第一线圈部分和所述第二线圈部分被它们之间的间隔分开;

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