[发明专利]用于光学光刻系统的监视系统

权利要求书

1.一种电子系统，包括：

光学光刻系统，所述光学光刻系统包括：

光源，被配置为产生光学光束，所述光源包括一个或多个控制系统，所述一个或多个控制系统中的每一个控制系统被配置为调整所述光源的操作参数；以及

光刻设备，所述光刻设备包括：

投影光学系统，所述投影光学系统被配置为接收来自所述光源的所述光学光束并产生曝光光束；以及

晶片区域，所述晶片区域被配置为接收晶片和所述曝光光束；以及

监视系统，与所述光学光刻系统耦合，所述监视系统被配置为：

访问至少一个规则，所述规则将模块库中的一个或多个模块与所述规则的执行准则相关联；

基于所访问的规则来标识来自所述模块库的模块；

使用所标识的模块和来自所述光学光刻系统的信息来确定所述光学光刻系统中是否存在特定条件；以及

如果存在所述特定条件，则向所述光学光刻系统提供命令信号，所述命令信号基于所确定的特定条件，并且足以致使所述控制系统中的一个或多个控制系统调整所述光源的一个或多个操作参数，其中

所述光源的所述一个或多个操作参数中的每一个操作参数指定所述光源的行为，并且调整所述光源的一个或多个操作参数改变所述光源的一个或多个行为。

2.根据权利要求1所述的系统，其中

所述光源还包括数据接口，

所述监视系统耦合到所述光源的所述数据接口，

来自所述光学光刻系统的所述信息被接收自所述光源的所述数据接口，以及

所述命令信号通过所述光源的所述数据接口被提供给所述光学光刻系统。

3.根据权利要求1所述的系统，其中

所述光源还包括数据接口，

所述光刻设备还包括数据接口，

所述监视系统耦合到所述光源的所述数据接口和所述光刻设备的所述数据接口，

来自所述光学光刻系统的所述信息出自于所述光源和所述光刻设备中的一项或多项，以及

所述命令信号通过所述光源的所述数据接口被提供给所述光学光刻系统。

4.根据权利要求1所述的系统，其中

由所述光源产生的所述光学光束是脉冲光学光束，

所述脉冲光学光束具有重复速率，所述重复速率指示所述脉冲光学光束的特定脉冲与紧邻所述特定脉冲的脉冲之间的时间，

所述光源的所述一个或多个控制系统被配置为以控制速率进行操作，所述控制速率等于或大于所述重复速率，使得所述控制系统能够针对所述脉冲光学光束中的每个脉冲调整所述光源的所述一个或多个操作参数，以及

所述监视系统具有监视系统速率，所述监视系统速率指示提供给所述光学光刻系统的所述命令信号的两个单独实例之间的最小时间量，以及

提供给所述光学光刻系统的所述命令信号的两个单独实例之间的所述最小时间量大于所述脉冲光学光束的脉冲之间的时间，使得所述监视系统速率比所述控制速率和所述重复速率慢。

5.根据权利要求4所述的系统，其中所述监视系统还被配置为：

存储在第一时间段内从所述光学光刻系统接收的信息，所述第一时间段大于所述脉冲光学光束中的两个相邻脉冲之间的时间；

分析在所述第一时间段内从所述光学光刻系统接收的存储的信息；以及

其中，所述监视系统被配置为使用所标识的模块和所分析的存储的信息来确定所述特定条件是否存在。

6.根据权利要求5所述的系统，其中所述监视系统还被配置为轮询所述光学光刻系统以从所述光学光刻系统接收所述信息。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述监视系统耦合到一个或多个其他光学光刻系统，并且所述监视系统被配置为：从任何耦合的光学光刻系统接收信息，并且向任何耦合的光学光刻系统提供命令信号。

8.根据权利要求7所述的系统，其中所述监视系统基于接收到的信息来确定在所述其他光学光刻系统的至少一个光学光刻系统中存在所述特定条件，所述监视系统标识所述条件存在于哪个光学光刻系统中，并且所述监视系统将所述命令信号仅提供给所标识的光刻系统。