[发明专利]用于光学光刻系统的监视系统

说明书

监视光学光刻系统。从光学光刻系统接收信息；访问规则，该规则与光学光刻系统中的事件和时间量中的一项或多项相关联；基于访问的规则标识存储在模块库中的模块；使用所标识的模块和从光学光刻系统接收的信息，确定光学光刻系统中是否存在特定条件；并且如果存在特定条件，则基于特定条件的一个或多个特性来生成命令信号，并将命令信号提供给光学光刻系统的光源。该命令信号基于所确定的特定条件，并且该命令信号足以改变光源的一个或多个操作参数。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年5月22日提交的美国申请15/602,028的优先权，并且其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本公开涉及一种用于光学光刻系统的监视系统。

背景技术

光刻是通过其在诸如硅晶片之类的衬底上对半导体电路进行图案化的工艺。光源生成被用来曝光晶片上的光致抗蚀剂的深紫外(DUV)光。DUV光可以包括例如从大约100纳米(nm)到大约400nm的波长。通常，光源是激光源(例如，受激准分子激光器)，而DUV光是脉冲激光束。来自光源的DUV光与投影光学系统交互，该投影光学系统将光束通过掩模投影到硅晶片上的光致抗蚀剂上。以这种方式，将芯片设计层图案化到光致抗蚀剂上。随后蚀刻和清洁光致抗蚀剂和晶片，并且然后重复光刻工艺。

发明内容

在一个总体方面，一种系统包括光学光刻系统和监视系统。所述光学光刻系统包括光源和光刻设备。所述光源被配置为产生光学光束，并且所述光源包括一个或多个控制系统，所述一个或多个控制系统中的每个控制系统被配置为调整所述光源的操作参数。所述光刻设备包括：投影光学系统，被配置为接收来自所述光源的光学光束并产生曝光光束；以及晶片区域，被配置为接收晶片和所述曝光光束。所述监视系统耦合到所述光学光刻系统，并且所述监视系统被配置为访问至少一个规则，基于所访问的规则标识来自模块库中的模块，使用所标识的模块和来自所述光学光刻系统的信息来确定所述光学光刻系统中是否存在特定条件，并且如果存在所述特定条件，则向所述光学光刻系统提供命令信号，所述命令信号基于所确定的特定条件并且足以致使控制系统中的一个或多个控制系统调整所述光源的一个或多个操作参数。所述光源的所述一个或多个操作参数中的每一个操作参数都指定所述光源的行为，并且调整所述光源的一个或多个操作参数改变所述光源的一个或多个行为。

实现可以包括以下特征中的一个或多个特征。所述光源还可以包括数据接口，所述监视系统可以耦合到所述光源的所述数据接口，可以从所述光源的所述数据接口接收来自所述光学光刻系统的信息，并且所述命令信号可以通过所述光源的所述数据接口被提供给所述光学光刻系统。

所述光源还可以包括数据接口，所述光刻设备还可以包括数据接口，所述监视系统可以耦合到所述光源的所述数据接口和所述光刻设备的所述数据接口，来自所述光学光刻系统的所述信息可以出自于所述光源和所述光刻设备中的一项或多项，并且所述命令信号可以通过所述光源的所述数据接口被提供给所述光学光刻系统。