[发明专利]无芯基板用预浸渍体、无芯基板、无芯基板的制造方法和半导体封装体有效

专利信息
申请号: 201880034089.X 申请日: 2018-03-28
公开(公告)号: CN110662794B 公开(公告)日: 2022-11-08
发明(设计)人: 坂本德彦;横田弘;桥本慎太郎;绳手克彦;土川信次;高根泽伸 申请(专利权)人: 昭和电工材料株式会社
主分类号: C08J5/24 分类号: C08J5/24;B32B5/28;B32B15/08;C08G59/50;C08K5/17;C08K5/3415;C08L33/04;H05K1/03;H05K3/46
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 薛海蛟
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 无芯基板用预 浸渍 无芯基板 制造 方法 半导体 封装
【权利要求书】:

1.一种无芯基板用预浸渍体,其包含热固化性树脂组合物,所述热固化性树脂组合物含有(甲基)丙烯酸类弹性体(a)、具有至少2个伯氨基的胺化合物(b)、及具有至少2个N-取代马来酰亚胺基的马来酰亚胺化合物(c),所述(甲基)丙烯酸类弹性体(a)的重均分子量Mw为300000~2000000,

所述具有至少2个伯氨基的胺化合物(b)为下述通式(b-1)所示的二胺化合物,

H2N-Xb1-NH2 (b-1)

通式(b-1)中,Xb1为下述通式(b1-1)、(b1-2)或(b1-3)所示的基团,

通式(b1-1)中,Rb1各自独立地为碳数1~5的脂肪族烃基或卤素原子,p为0~4的整数,

通式(b1-2)中,Rb2和Rb3各自独立地为碳数1~5的脂肪族烃基或卤素原子,Xb2为碳数1~5的烷撑基、碳数2~5的烷叉基、醚基、硫醚基、磺酰基、羰氧基、酮基、单键或下述通式(b1-2-1)所示的基团,q和r各自独立地为0~4的整数,

通式(b1-2-1)中,Rb4和Rb5各自独立地为碳数1~5的脂肪族烃基或卤素原子,Xb3为碳数1~5的烷撑基、碳数2~5的烷叉基、醚基、硫醚基、磺酰基、羰氧基、酮基或单键,s和t各自独立地为0~4的整数,

通式(b1-3)中,Rb6、Rb7、Rb8和Rb9各自独立地表示碳数1~5的烷基、苯基或取代苯基,Xb4和Xb5各自独立地表示2价的有机基团,u为2~100的整数。

2.根据权利要求1所述的无芯基板用预浸渍体,其中,(甲基)丙烯酸类弹性体(a)的含量相对于热固化性树脂组合物中的树脂成分的固体成分100质量份为1质量份~60质量份。

3.根据权利要求1或2所述的无芯基板用预浸渍体,其中,(甲基)丙烯酸类弹性体(a)具有选自环氧基、羟基、羧基、氨基及酰胺基中的1种以上的反应性官能团。

4.根据权利要求1或2所述的无芯基板用预浸渍体,其中,所述热固化性树脂组合物还含有热固化性树脂(d)。

5.根据权利要求1或2所述的无芯基板用预浸渍体,其中,所述热固化性树脂组合物还含有固化促进剂(e)。

6.根据权利要求1或2所述的无芯基板用预浸渍体,其中,所述热固化性树脂组合物还含有无机填充材料(f)。

7.一种无芯基板,其含有使用权利要求1~6中任一项所述的无芯基板用预浸渍体而形成的绝缘层。

8.一种半导体封装体,其是在权利要求7所述的无芯基板上搭载半导体元件而成的。

9.一种无芯基板的制造方法,其中,在支撑体上形成层积层后,将该层积层从所述支撑体分离,

所述层积层是将绝缘层和导体层交替层叠而成的,

使用权利要求1~6中任一项所述的无芯基板用预浸渍体形成所述绝缘层的至少1层。

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