[发明专利]不含六价铬的蚀刻锰真空蒸发系统

权利要求书

1.一种用于从锰离子源中去除水的方法，所述方法包括：

将所述锰离子源的至少一部分引导通过导管，其中所述导管包括用于过滤不溶解的颗粒的过滤器；

用真空蒸发器浓缩所述锰离子源的所述部分；

将浓缩部分返回到基于锰的蚀刻剂浴。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述浓缩部分包含酸。

3.根据权利要求2所述的方法，还包括纯化所述酸。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述真空蒸发器还包括热源。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述基于锰的蚀刻剂浴被配置成蚀刻基板。

6.根据权利要求1所述的方法，其中第二导管将所述浓缩部分返回到所述基于锰的蚀刻剂浴。

7.根据权利要求1所述的方法，其中第一导管还包括单向阀，所述单向阀用于防止所述锰离子源的所述部分经由所述导管返回到所述锰离子源。

8.一种用于从基于锰的蚀刻剂浴中去除水的方法，所述方法包括：

将基于锰的蚀刻剂浴的至少一部分引导通过导管，其中所述导管包括单向阀，所述单向阀用于禁止所述基于锰的蚀刻剂浴的所述部分经由所述导管返回到所述基于锰的蚀刻剂浴；

用真空蒸发器浓缩所述基于锰的蚀刻剂浴的所述部分；

将浓缩部分返回到所述基于锰的蚀刻剂浴。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述导管还包括还包括用于过滤不溶解的颗粒的过滤器。

10.根据权利要求8所述的方法，其中所述浓缩部分包含酸。

11.根据权利要求10所述的方法，所述酸是纯化的。

12.根据权利要求8所述的方法，其中所述真空蒸发器还包括热源。

13.根据权利要求8所述的方法，其中所述基于锰的蚀刻剂浴被配置成蚀刻基板。

14.根据权利要求8所述的方法，其中第二导管将所述浓缩部分返回到所述基于锰的蚀刻剂浴。

15.一种用于从基于锰的蚀刻剂浴中去除水的系统，所述系统包括：

基于锰的蚀刻剂浴；

第一导管，所述第一导管在第一端部处连接所述基于锰的蚀刻剂浴，并且在第二端部处连接真空蒸发器，其中所述第一导管包括用于过滤不溶解的颗粒的过滤器，并且允许所述基于锰的蚀刻剂浴的至少一部分流过所述第一导管进入所述真空蒸发器中；

真空蒸发器，所述真空蒸发器用于从所述基于锰的蚀刻剂浴的流过所述第一导管的所述部分蒸发水并浓缩所述部分；以及

第二导管，所述第二导管用于将所述浓缩部分从所述真空蒸发器引导至所述基于锰的蚀刻剂浴。

16.根据权利要求15所述的系统，其中所述真空蒸发器还包括用于加热所述真空蒸发器的内容物的加热源。

17.根据权利要求15所述的系统，其中所述基于锰的蚀刻剂浴被配置成蚀刻基板。

18.根据权利要求15所述的系统，浓缩部分包含酸。

19.根据权利要求15所述的系统，其中所述第一导管被配置成用于从所述基于锰的蚀刻剂浴到所述真空蒸发器的单向通道。