[发明专利]从支撑台卸载物体的方法

权利要求书

1.一种在卸载过程期间从支撑台卸载物体的方法，所述物体在曝光过程期间通过以下方式被夹持到所述支撑台：

向所述物体的中心部分下方的所述支撑台的中心区域施加第一压力；和

向所述物体的周缘部分下方的所述支撑台的周缘区域施加第二压力，其中在夹持期间控制所述第一压力和所述第二压力，使得液体被保持在所述物体与密封构件之间，所述密封构件在所述支撑台的上表面处径向地定位于所述中心区域与所述周缘区域之间，并且朝向所述物体突出，所述方法包括：

朝向环境压力增大所述第一压力；

通过减小所述第二压力来去除保持在所述物体与所述密封构件之间的液体中的至少一些液体；和

朝向所述环境压力增大所述第二压力。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，去除所述液体中的至少一些液体的步骤包括：相对于所述曝光期间的第二压力减小所述第二压力。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在降低所述第二压力之前，对所述中心区域施加过压以导致所述物体鼓起。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，当所述第一压力实质上恒定并且所述第一压力与所述第二压力之间的压力差实质上等于所述曝光过程期间的压力差时，在朝向环境压力增大所述第一压力的步骤之后的时刻施加所述过压。

5.一种光刻设备，包括：

用于保持物体的支撑台，所述支撑台包括：

第一通道，所述第一通道用于向所述物体的中心部分下方的所述支撑台的中心区域施加第一压力；

第二通道，所述第二通道用于向所述物体的周缘部分下方的所述支撑台的周缘区域施加第二压力；和

密封构件，所述密封构件在所述支撑台的上表面处径向地定位于所述第一通道与所述第二通道之间，并且朝向所述物体突出；和

控制器，所述控制器适于：

控制在曝光过程期间所述第一压力和所述第二压力的施加，使得液体在所述曝光过程期间保持在所述物体与所述密封构件之间；

朝向环境压力增大所述第一压力；

减小所述第二压力，使得去除保持在所述物体与所述密封构件之间的所述液体中的至少一些液体；和

在卸载过程期间朝向所述环境压力增大所述第二压力。

6.一种用于光刻设备的衬底台和支撑台的真空系统，所述支撑台用于保持物体，所述真空系统包括流动回路，所述流动回路包括：

第一压力回路，所述第一压力回路包括第一真空压力线路，所述第一真空压力线路配置成将所述支撑台夹持至所述衬底台；

第二压力回路，所述第二压力回路包括：

第二真空压力线路，所述第二真空压力线路配置成向所述物体的周缘部分下方的所述支撑台的周缘区域施加第二压力；

第三真空压力线路，所述第三真空压力线路配置成向所述物体的中心部分下方的所述支撑台的中心区域施加第一压力，以便将所述物体夹持至所述支撑台；

真空装置，所述真空装置配置成向所述第二压力回路提供压力；和

第四真空压力线路，所述第四真空压力线路从所述第二压力回路分支；

第一流量控制器，所述第一流量控制器用于控制所述第二真空压力线路中的压力；和

第二流量控制器，所述第二流量控制器用于控制所述第四真空压力线路中的压力。

7.根据权利要求6所述的真空系统，还包括用于分离所述第二压力回路中的两相流的分离腔室。

8.根据权利要求6或7所述的真空系统，其中，所述真空装置包括在所述第四真空压力线路中的第三流量控制器上游的真空腔室。

9.根据权利要求8所述的真空系统，其中，所述第四真空压力线路与所述第一压力回路成流体连通。

10.根据权利要求6或7所述的真空系统，其中，所述真空装置包括文丘里泵。