[发明专利]光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种化学增幅型光致抗蚀剂组合物，包含碱溶性树脂，所述碱溶性树脂包含含有其中杂环化合物经由包含具有1至20个碳原子的硫化亚烷基的二价官能团取代的基于(甲基)丙烯酸酯的重复单元的基于(甲基)丙烯酸酯的树脂，

其中所述杂环化合物为选自三唑类化合物、咪唑类化合物、噻二唑类化合物、三嗪类化合物和苯并咪唑类化合物中的至少一者。

2.根据权利要求1所述的化学增幅型光致抗蚀剂组合物，

其中所述基于(甲基)丙烯酸酯的树脂包含1重量％至50重量％的所述其中杂环化合物经由包含具有1至20个碳原子的硫化亚烷基的二价官能团取代的基于(甲基)丙烯酸酯的重复单元。

3.根据权利要求1所述的化学增幅型光致抗蚀剂组合物，

其中所述其中杂环化合物经由包含具有1至20个碳原子的硫化亚烷基的二价官能团取代的基于(甲基)丙烯酸酯的重复单元包括由以下化学式A表示的重复单元：

[化学式A]

其中，在化学式A中，

R_a为氢或甲基，

R_b和R_c各自为经取代或未经取代的具有1至10个碳原子的亚烷基，以及

X为所述杂环化合物。

4.根据权利要求1所述的化学增幅型光致抗蚀剂组合物，

其中所述基于(甲基)丙烯酸酯的树脂还包含衍生自选自由以下化学式1至8表示的化合物中的至少一种化合物的重复单元：

[化学式1]

[化学式2]

[化学式3]

[化学式4]

[化学式5]

[化学式6]

[化学式7]

[化学式8]

其中，在化学式1至8中，

R₁为氢、卤素或具有1至10个碳原子的脂族基团；以及

n₁和n₂为整数，其中1≤n₁≤18，以及1≤n₂≤18。

5.根据权利要求1所述的化学增幅型光致抗蚀剂组合物，

其中所述杂环化合物衍生自选自由以下化学式9至14表示的化合物中的一者：

[化学式9]

[化学式10]

[化学式11]

[化学式12]

[化学式13]

[化学式14]

其中，在化学式9至14中，

R₂至R₁₀各自独立地为氢、卤素、硫醇(SH)、胺(NH₂)、羟基(OH)、具有1至20个碳原子的亚烷基、或具有1至20个碳原子的烷氧基，

R₁₁为包含硫醇(SH)的官能团或包含具有1至20个碳原子的亚烷基硫醇的官能团，以及

n₃和n₄为整数，其中1≤n₃≤2，以及1≤n₄≤4。

6.根据权利要求1所述的化学增幅型光致抗蚀剂组合物，

其中所述具有1至20个碳原子的硫化亚烷基通过硫醇-烯点击反应形成。

7.根据权利要求1所述的化学增幅型光致抗蚀剂组合物，

其中所述碱溶性树脂还包含选自以下中的至少一者：与所述含有其中杂环化合物经由包含具有1至20个碳原子的硫化亚烷基的二价官能团取代的基于(甲基)丙烯酸酯的重复单元的基于(甲基)丙烯酸酯的树脂不同的基于(甲基)丙烯酸酯的树脂；基于酚醛清漆的树脂；和基于聚羟基苯乙烯的树脂。

8.根据权利要求1所述的化学增幅型光致抗蚀剂组合物，

还包含选自光致产酸剂和光引发剂中的至少一者。