[发明专利]器件制造方法

权利要求书

1.一种器件制造方法，所述方法包括：

获得已经执行曝光步骤和过程步骤的多个衬底的测量数据时间序列；

获得与主要在对所述多个衬底中的至少部分执行所述过程步骤时的条件相关的状态数据时间序列；

对所述测量数据时间序列和所述状态数据时间序列应用滤波器以获得被滤波的数据；和

使用所述被滤波的数据确定将要对后续衬底执行的曝光步骤中施加的校正。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括：

对所述测量数据时间序列和/或所述状态数据时间序列应用另外的滤波器以获得另外的被滤波的数据；和

使用所述另外的被滤波的数据确定将要对所述后续衬底执行的所述曝光步骤中施加的另外的校正。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，应用滤波器和/或另外的滤波器包括应用多项式滤波器，所述多项式滤波器具有呈所述衬底的空间坐标形式的项。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，应用滤波器和/或另外的滤波器包括：将所述测量数据时间序列和所述状态数据时间序列变换成频率空间数据，对所述频率空间数据应用频率滤波器以获得被滤波的频率空间数据，和将所述被滤波的频率数据变换成所述被滤波的数据。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，施加滤波器和/或另外的滤波器包括：对与所述衬底中的第一区相关的所述测量数据时间序列的测量数据应用第一滤波器，和对与所述衬底中的第二区相关的所述测量数据时间序列的测量数据应用不同于所述第一滤波器中的第二滤波器。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述第一区是边缘区，所述第二区是内部区。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述校正将要被应用以校正重叠、剂量和聚焦中的至少一个。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述过程步骤是选自以下的组的至少一个：蚀刻过程、退火过程、植入过程、沉积过程和抛光过程。

9.一种器件制造方法，所述方法包括：

获得已经执行曝光步骤和过程步骤的多个衬底的测量数据时间序列；

对所述测量数据时间序列应用滤波器以获得被滤波的数据；

使用所述被滤波的数据确定将要对后续衬底执行的曝光步骤中应用的校正；

对所述测量数据时间序列应用另外的滤波器以获得另外的被滤波的数据；

使用所述另外的被滤波的数据确定将要对所述后续衬底执行的曝光步骤中施加的校正。

10.根据权利要求9所述的方法，还包括：

获得与主要在对所述多个衬底中的至少部分执行所述过程步骤时的条件相关的状态数据时间序列；并且

其中，应用滤波器包括对所述测量数据时间序列和所述状态数据时间序列应用滤波器以获得被滤波的数据。

11.根据权利要求7所述的方法，其中，所述校正和/或另外的校正将要被应用以校正重叠、剂量和聚焦中的至少一个。

12.一种器件制造方法，所述方法包括：

获得已经执行曝光步骤和过程步骤的多个衬底的测量数据时间序列；

获得与主要在对所述多个衬底中的至少部分执行所述过程步骤时的条件相关的状态数据时间序列；

将所述测量数据时间序列和所述状态数据时间序列变换成频率空间数据；

基于所述频率空间数据确定将要对所述测量数据时间序列和所述状态数据时间序列中的至少一个应用的滤波器以获得被滤波的数据；

对所述测量数据时间序列和所述状态数据时间序列中的所述至少一个应用所述滤波器以获得被滤波的数据；和

使用所述被滤波的数据确定要对后续衬底执行的曝光步骤中施加的校正。