[发明专利]器件制造方法

说明书

一种器件制造方法，所述方法包括：获得已经执行曝光步骤和过程步骤的多个衬底的测量数据时间序列；获得与主要在对所述多个衬底中的至少部分执行所述过程步骤时的条件相关的状态数据时间序列；对所述测量数据时间序列和所述状态数据时间序列应用滤波器以获得被滤波的数据；和使用所述被滤波的数据确定将要对后续衬底执行的曝光步骤中施加的校正。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年6月14日提交的欧洲申请17175967.3的优先权，所述申请通过引用其全部内容并入本文中。

技术领域

本发明涉及使用光刻设备和过程设备的器件制造。

背景技术

光刻设备为将期望的图案施加至衬底上(通常施加至衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在所述情况下，图案形成装置(其被替代地称作掩模或掩模版)可以用以产生要形成于IC的单层上的电路图案。可以将所述图案转印至衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的一部分、一个管芯或几个管芯)上。典型地经由成像至提供于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行图案的转印。通常，单一衬底将包含被顺次地图案化的邻近目标部分的网络。接着使被图案化的辐射敏感层显影，且使用诸如蚀刻器的过程设备以将图案固定于衬底中。

为了产生电子器件，有必要多次重复曝光步骤和固定步骤，例如高达30次以产生不同器件层。每个层一次施加至衬底中的一个批量(也被称作批次)。为了改善良率，即，具有功能性或可使用的器件的分数，已知使用对衬底执行的测量来调整被施加相同过程的同一批量或稍后批量中的后续衬底的曝光，例如，以减小重叠、聚焦或CD中的误差。所述过程被称为自动过程控制。在对多个衬底的测量可使用的情况下，测量结果的加权移动平均值常常用作对过程控制的输入。

然而，已知的APC方法仍然留下横跨衬底的“指纹”—诸如聚焦、重叠或CD的参数的变化，且因此需要改良自动过程控制方法。

发明内容

本发明旨在提供用于光刻制造过程中的改良的自动过程控制方法。

在第一方面中，本发明提供一种器件制造方法，所述方法包括：

获得已经执行曝光步骤和过程步骤的多个衬底的测量数据时间序列；

获得与主要在对所述多个衬底中的至少部分执行所述过程步骤时的条件相关的状态数据时间序列；

对所述测量数据时间序列和所述状态数据时间序列施加滤波器以获得被滤波的数据；和

使用所述被滤波的数据确定将要对后续衬底执行的曝光步骤中施加的校正。

在第二方面中，本发明提供一种器件制造方法，所述方法包括：

获得已经执行曝光步骤和过程步骤的多个衬底的测量数据时间序列；

对所述测量数据时间序列应用滤波器以获得被滤波的数据；

使用所述被滤波的数据确定将要对后续衬底执行的曝光步骤中施加的校正；

对所述测量数据时间序列应用另外的滤波器以获得另外的被滤波的数据；和

使用所述另外的被滤波的数据确定将要对所述后续衬底执行的所述曝光步骤中施加的另外的校正。

在第三方面中，本发明提供一种器件制造方法，所述方法包括：

获得已经执行曝光步骤和过程步骤的多个衬底的测量数据时间序列；

获得与主要在对所述多个衬底中的至少部分执行所述过程步骤时的条件相关的状态数据时间序列；

将所述测量数据时间序列和所述状态数据时间序列变换成频率空间数据；