[发明专利]在电子装置制造系统中进行间隙校准的系统和方法有效
申请号: | 201880041126.X | 申请日: | 2018-05-25 |
公开(公告)号: | CN110770888B | 公开(公告)日: | 2020-12-11 |
发明(设计)人: | 莫辛·瓦卡尔;马文·L·弗雷曼 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子 装置 制造 系统 进行 间隙 校准 方法 | ||
1.一种电子装置制造系统的运动控制系统,包括:
运动控制器,所述运动控制器包括可编程处理器、存储器和间隙校准软件程序,所述间隙校准软件程序存储在所述存储器中并可由所述可编程处理器执行;
致动器驱动器,所述致动器驱动器耦接至所述运动控制器,且所述致动器驱动器包括驱动器软件程序;
致动器,所述致动器耦接至所述致动器驱动器且耦接至位于处理腔室或装载锁定机构中的处理传送设备或基板支撑件,所述致动器被配置为移动所述处理传送设备或所述基板支撑件;和
反馈装置,所述反馈装置耦接至所述致动器且耦接至所述运动控制器,其中:
所述间隙校准软件程序被配置为造成所述处理传送设备与所述基板支撑件或在所述基板支撑件上所接收的基板的相应表面之间的直接接触;并且
在所述间隙校准软件程序的执行期间,所述运动控制器、所述致动器驱动器、所述致动器和所述反馈装置被配置为在所述处理腔室或装载锁定机构处于处理温度或处理压力时操作。
2.如权利要求1所述的运动控制系统,其中所述处理温度的范围为100摄氏度至700摄氏度,且所述处理压力的范围为0.01Torr至80Torr。
3.如权利要求1所述的运动控制系统,进一步包括通信网络,所述通信网络耦接至所述运动控制器、所述致动器驱动器、所述致动器和所述反馈装置,所述通信网络利用CANopen通信协定。
4.如权利要求1所述的运动控制系统,其中所述反馈装置测量以下至少一者:位置、速度、扭矩、电流、力、或应变。
5.如权利要求1所述的运动控制系统,其中:
所述致动器驱动器包括多个致动器驱动器;
所述致动器包括多个致动器;和
所述反馈装置包括多个反馈装置;其中:
在所述间隙校准软件程序的执行期间,所述多个致动器驱动器、致动器和反馈装置同时由所述运动控制器所操作。
6.一种电子装置制造系统,包括:
传送腔室;
处理腔室,所述处理腔室耦接至所述传送腔室,所述传送腔室被配置为将一个或更多个基板传送进出所述处理腔室,所述处理腔室被配置为在其中处理所述一个或更多个基板;
装载锁定机构,所述装载锁定机构耦接至所述传送腔室,所述传送腔室被配置为将所述一个或更多个基板传送进出所述装载锁定机构;和
运动控制器,所述运动控制器包括可编程处理器、存储器和间隙校准软件程序,所述间隙校准软件程序存储在所述存储器中并可由所述可编程处理器执行,所述间隙校准软件程序被配置为在所述处理腔室内造成处理传送设备与所述基板支撑件或在所述基板支撑件上所接收的所述一个或更多个基板的其中一个基板的相应表面之间的直接接触;其中:
在所述间隙校准软件程序的执行期间,所述处理腔室或所述装载锁定机构处于处理温度或处理压力下。
7.如权利要求6所述的电子装置制造系统,其中所述装载锁定机构被配置为在其中处理所述一个或更多个基板的一者或更多者。
8.如权利要求7所述的电子装置制造系统,其中所述间隙校准软件程序进一步被配置为在所述装载锁定机构内造成装载锁定机构处理传送设备与装载锁定机构基板支撑件或在所述装载锁定机构基板支撑件上所接收的所述一个或更多个基板的其中一个基板的相应表面之间的直接接触。
9.如权利要求6所述的电子装置制造系统,进一步包括:
致动器驱动器,所述致动器驱动器耦接至所述运动控制器,且所述致动器驱动器包括驱动器软件程序;
致动器,所述致动器耦接至所述致动器驱动器且耦接至位于所述处理腔室中的所述处理传送设备或所述基板支撑件,所述致动器被配置为移动所述处理传送设备或所述基板支撑件;和
反馈装置,所述反馈装置耦接至所述致动器且耦接至所述运动控制器。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造