[发明专利]光学装置及其制造方法有效
申请号: | 201880043713.2 | 申请日: | 2018-07-06 |
公开(公告)号: | CN110799888B | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 杉本达哉;铃木智史;港谷恭辅 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | G02B26/00 | 分类号: | G02B26/00;B81B3/00;G01B9/02;G01J3/45 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种光学装置,其特征在于,
具备:
基座;
可动部,其具有光学功能部;
弹性支撑部,其连接于所述基座与所述可动部之间,以所述可动部能够沿着第1方向移动的方式支撑所述可动部;
第1梳齿电极,其设置于所述基座,且具有多个第1梳齿;及
第2梳齿电极,其设置于所述可动部及所述弹性支撑部的至少一者,且具有与所述多个第1梳齿相互交替地配置的多个第2梳齿,
所述弹性支撑部具有沿着与所述第1方向垂直的第2方向延伸的扭力棒、及连接有所述扭力棒的杆,
所述第2梳齿电极设置于所述可动部及所述弹性支撑部的至少一者中位于较所述扭力棒更靠近所述光学功能部侧的部分,
相邻的所述第1梳齿与所述第2梳齿在所述第2方向、或与所述第1方向及所述第2方向垂直的第3方向中所述可动部的外力耐受性高的方向上彼此相对。
2.如权利要求1所述的光学装置,其特征在于,
所述弹性支撑部在所述第3方向上的所述可动部的两侧配置有一对。
3.如权利要求1或2所述的光学装置,其特征在于,
所述第2方向或所述第3方向中所述可动部的外力耐受性高的方向为所述第2方向,
所述弹性支撑部还具有在较所述扭力棒更靠近所述光学功能部侧沿与所述第1方向垂直的平面延伸的电极支撑构件,
所述第2梳齿电极沿着所述电极支撑构件设置。
4.如权利要求1或2所述的光学装置,其特征在于,
所述第2方向或所述第3方向中所述可动部的外力耐受性高的方向为所述第3方向,
所述第2梳齿电极沿着所述可动部的外缘设置。
5.一种光学装置,其特征在于,
具备:
基座;
可动部,其具有光学功能部;
弹性支撑部,其连接于所述基座与所述可动部之间,以所述可动部能够沿着第1方向移动的方式支撑所述可动部;
第1梳齿电极,其设置于所述基座,且具有多个第1梳齿;及
第2梳齿电极,其设置于所述可动部及所述弹性支撑部的至少一者,且具有与所述多个第1梳齿相互交替地配置的多个第2梳齿,
所述弹性支撑部具有沿着与所述第1方向垂直的第2方向延伸的扭力棒、及连接有所述扭力棒的杆,
所述第2梳齿电极设置于所述可动部及所述弹性支撑部的至少一者中位于较所述扭力棒更靠近所述光学功能部侧的部分,
相邻的所述第1梳齿与所述第2梳齿在与所述第1方向垂直的方向中所述可动部的外力耐受性最高的方向上彼此相对。
6.一种光学装置的制造方法,其特征在于,
具备:
制作与权利要求1~4中任一项所述的光学装置对应的模型,在所述模型中,测量所述第2方向或所述第3方向中所述可动部的外力耐受性高的方向的步骤;及
测量所述可动部的外力耐受性高的方向,其结果,在所述模型中,当相邻的所述第1梳齿与所述第2梳齿在所述可动部的外力耐受性高的方向上彼此相对时,以与所述模型对应的方式制造所述光学装置的步骤。
7.一种光学装置的制造方法,其特征在于,
具备:
制作与权利要求5所述的光学装置对应的模型,在所述模型中,测量与所述第1方向垂直的方向中所述可动部的外力耐受性最高的方向的步骤;及
测量所述可动部的外力耐受性最高的方向,其结果,在所述模型中,当相邻的所述第1梳齿与所述第2梳齿在所述可动部的外力耐受性最高的方向上彼此相对时,以与所述模型对应的方式制造所述光学装置的步骤。
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