[发明专利]从回收抗蚀剂剥离剂回收二甲基亚砜的方法

说明书

一种二甲基亚砜的回收方法，其包括使包含选自二醇醚、二醇和三醇中的至少1种化合物以及二甲基亚砜的回收抗蚀剂剥离剂与水接触并进行蒸馏的工序。

技术领域

本发明涉及从回收抗蚀剂剥离剂回收二甲基亚砜(DMSO)的方法。

背景技术

通过光刻来制造半导体元件等时，在通过蚀刻形成了微细电路等后，使用抗蚀剂剥离剂来进行无用的抗蚀剂膜、蚀刻残留物的清洗去除。作为抗蚀剂剥离剂，也可以单独使用氢氧化钠水溶液、一般的有机溶剂，但其剥离性不充分，为了提高剥离性，至今为止提出了各种抗蚀剂剥离剂。

作为剥离性高的抗蚀剂剥离剂，经常使用例如用DMSO和3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇(MMB)等二醇醚等的混合溶剂将四甲基氢氧化铵(TMAH)等氢氧化季铵溶解而得的抗蚀剂剥离剂等(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2010/073430号

发明内容

发明要解决的课题

当今，使用过的抗蚀剂剥离剂(回收抗蚀剂剥离剂)通常作为产业废弃物而废弃。另一方面，在上述那样的抗蚀剂剥离剂中使用的DMSO在进行了抗蚀剂剥离后的冲洗工序中还用作冲洗液，近年来用量显著增加。因此，如果能够从回收抗蚀剂剥离剂回收高纯度的DMSO并再次利用，则在成本方面等是有利的。

然而，DMSO(沸点189℃)与二醇醚等的沸点大多相近(例如MMB的沸点为174℃)，通常的减压蒸馏等方法难以回收高纯度的DMSO，DMSO的再利用并不现实。

本发明的目的在于，提供从回收抗蚀剂剥离剂中廉价且高效地回收高纯度DMSO的方法。

用于解决课题的手段

本发明人等进行了深入研究，结果发现：通过向回收抗蚀剂剥离剂中添加水并进行蒸馏，能够廉价且高效地回收高纯度的DMSO，并基于该见解进一步反复研究，从而完成了本发明。

本发明涉及下述[1]～[3]。

[1]一种DMSO的回收方法，其包括使包含选自二醇醚、二醇和三醇中的至少1种化合物以及DMSO的回收抗蚀剂剥离剂与水接触并进行蒸馏的工序。

[2]根据[1]的回收方法，其中，上述化合物为选自3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇、二乙二醇、丙二醇、甘油和2-(2-甲氧基乙氧基)乙醇中的至少1种。

[3]根据[1]的回收方法，其中，上述化合物为3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇。

发明的效果

根据本发明的方法，能够从回收抗蚀剂剥离剂中廉价且高效地回收高纯度的DMSO。

具体实施方式

以下，具体说明本发明的方法。

典型而言，本发明中成为回收DMSO的对象的“回收抗蚀剂剥离剂”是指：在光刻中清洗去除无用的抗蚀剂膜等后的使用过的抗蚀剂剥离剂，其包含选自二醇醚、二醇和三醇中的至少1种化合物以及DMSO。

另外，通常，回收抗蚀剂剥离剂还包含氢氧化季铵、抗蚀剂成分等。

作为二醇醚，可列举出例如乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单丁基醚、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇单丙基醚、二乙二醇单丁基醚、三乙二醇单甲基醚、3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇(MMB)、二丙二醇单甲基醚、2-(2-甲氧基乙氧基)乙醇等。

作为二醇，可列举出例如乙二醇、丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、三乙二醇等。

作为三醇，可列举出例如甘油等。