[发明专利]具有可移动的遮蔽件载体的设备

权利要求书

1.一种真空处理设备，包括：

真空腔室；

沉积源，设置在所述真空腔室中；

第一轨道布置，包括：

第一输送轨道，适于将基板输送到真空腔室中；

第二输送轨道，适于将掩模输送到真空腔室中；和

第三输送轨道，适于在所述沉积源与所述掩模之间输送掩模遮蔽件，以减少所述掩模的污染。

2.如权利要求1所述的真空处理设备，其中所述第三输送轨道适于将所述掩模遮蔽件输送到所述真空腔室外。

3.如权利要求2所述的真空处理设备，其中所述第三输送轨道具有下部和上部。

4.如前述权利要求的任一项所述的真空处理设备，其中所述第三输送轨道具有在所述真空腔室内的下部和上部以及在所述真空腔室外的下部和上部。

5.如前述权利要求的任一项所述的真空处理设备，其中在所述真空腔室外的所述第三轨道的所述上部是可移动的。

6.如前述权利要求的任一项所述的真空处理设备，其中所述掩模遮蔽件具有至少第一部分，所述第一部分与第二部分可分离。

7.如前述权利要求的任一项所述的真空处理设备，其中所述第三输送轨道被配置为相对于所述掩模对准所述掩模遮蔽件。

8.一种在真空处理设备中的轨道布置，包括：

第一输送轨道，用于在所述真空处理设备的真空腔室中输送基板；

第二输送轨道，用于输送所述真空处理设备的所述真空腔室中的掩模；和

第三输送轨道，用于在所述真空处理设备的所述真空腔室中输送掩模遮蔽件。

9.如权利要求8所述的轨道布置，其中所述第三输送轨道适于从所述真空腔室的内侧将所述掩模遮蔽件输送到所述真空腔室的外侧。

10.如前述权利要求8至9的任一项所述的轨道布置，其中所述第三输送轨道被配置为在所述真空腔室内的沉积源与所述掩模之间移动所述掩模遮蔽件。

11.如权利要求8至10的任一项所述的轨道布置，其中所述第三输送轨道被配置为相对于所述掩模对准所述掩模遮蔽件，使得所述掩模遮蔽件至少部分地遮蔽所述掩模，以减少掩模载体的污染。

12.如权利要求8至11的任一项所述的轨道布置，其中用于输送掩模遮蔽件的所述第三输送轨道包括对准系统，适于在x、y和z方向中移动所述掩模遮蔽件。

13.一种掩模遮蔽件，布置在真空处理设备的输送轨道上，其中所述掩模遮蔽件包括：遮蔽件框架，其中所述遮蔽件框架包括至少一片金属遮蔽件并且包括侧遮蔽件，所述至少一片金属遮蔽件覆盖所述掩模载体和/或掩模框架的一侧，所述侧遮蔽件覆盖所述掩模载体的边缘。

14.如权利要求13所述的掩模遮蔽件，其中所述掩模遮蔽件被配置为在所述真空处理设备中的真空腔室中相对掩模对准。

15.如权利要求14所述的掩模遮蔽件，其中所述掩模遮蔽件和所述输送轨道被配置为使得所述掩模遮蔽件可至少部分地移动至所述真空腔室外。

16.一种更换用于真空处理设备的掩模遮蔽件的方法，包括：

将提供于所述真空腔室中的沉积源带动到返回位置；

打开所述真空腔室的阀；

使所述掩模遮蔽件的第一部分滑动离开所述真空腔室；

从所述掩模遮蔽件的所述第一部分拆下第一遮蔽件；

使所述掩模遮蔽件的第二部分滑动离开所述真空腔室；和

从所述掩模遮蔽件的所述第二部分拆下第二遮蔽件。