[发明专利]具有可移动的遮蔽件载体的设备

说明书

描述一种用于处理基板的真空处理设备。所述真空处理设备包括：真空腔室；和沉积源，所述沉积源设置在所述真空腔室中。所述设备进一步包括第一轨道布置，所述第一轨道布置具有适于输送基板的第一输送轨道和适于输送掩模的第二输送轨道。此外，所述设备包括第三输送轨道，所述第三输送轨道适于在所述沉积源与所述掩模之间输送掩模遮蔽件，以避免所述掩模的污染。所述第三输送轨道适于将所述掩模遮蔽件输送到真空腔室外，所以拆下及清洁受到来自沉积源的材料污染的掩模遮蔽件是可行的。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种设备、一种轨道布置、一种掩模遮蔽件和一种用于移动掩模遮蔽件的方法。特别是，本公开内容的实施方式涉及真空处理设备的掩模遮蔽件的维护。本文所述的方法和设备可使用于制造有机发光二极管(organic light-emitting diode，OLED)装置。

背景技术

用于层沉积在基板上的技术例如包括热蒸发、物理气相沉积(physical vapordeposition，PVD)和化学气相沉积(chemical vapor deposition，CVD)。已涂布的基板可使用于数种应用中和数种技术领域中。例如，已涂布的基板可使用于有机发光二极管(organic light emitting diode，OLED)装置的领域中。OLED可使用于制造电视屏幕、计算机屏幕、移动电话、其他手持装置和用于显示信息的类似者。OLED装置例如是OLED显示器，可以包括一个或多个有机材料层，此一个或多个有机材料层位在沉积在基板上的两个电极之间。

在沉积涂布材料于基板上期间，基板可由基板载体支撑，并且掩模可由掩模载体支撑在基板的前方。因此，材料图案可沉积在基板上，材料图案例如对应于掩模的开孔图案的多个像素。

OLED装置的功能一般取决于应在预定范围中的有机材料的涂布厚度。为了取得高分辨率的OLED装置，有关于已蒸发材料的沉积的技术挑战必须掌握。特别是，准确和平顺输送基板载体和掩模载体通过真空系统具有挑战性。此外，例如用于制造高分辨率OLED装置来说，相对于掩模准确的对准基板对于实现高质量沉积结果至关重要。此外，为了减少真空处理系统的所有权的成本，在短时间内有利地提供清洁部件来减少系统的停工时间。此外，在真空处理系统的一部分提供维护，而其他部分可仍进行操作是有利的。

因此，不仅提供用于在真空腔室中相对于彼此准确地和可靠地定位和对准基板和掩模的设备、系统和方法，且提供简易和有成本效益的维护表现的设备会为有利的。此外，有效利用具有短空闲时间的真空沉积系统会为有利的。

发明内容

鉴于上述，提出一种用于处理基板的设备，一种用于处理基板的系统，以及一种在真空腔室中相对于掩模载体对准基板载体的方法。本公开内容的其他方面、优点和特征从权利要求书、说明书和所附附图更为清楚。

根据本公开内容的一方面，公开一种真空处理设备，真空处理设备包括：真空腔室；沉积源，设置在真空腔室中。第一轨道布置包括第一输送轨道，适于输送基板；第二输送轨道，适于输送掩模；和第三输送轨道，适于在沉积源与掩模之间输送掩模遮蔽件，以减少掩模的污染。

根据本申请的另一方面，公开一种在真空处理设备中的轨道布置。轨道布置包括第一输送轨道，用于在真空处理设备的真空腔室中输送基板；第二输送轨道，用于输送真空处理设备的真空腔室中的掩模；和第三输送轨道，用于在真空处理设备的真空腔室中输送掩模遮蔽件。

在本公开内容的其他方面中，公开一种掩模遮蔽件。掩模遮蔽件或遮蔽件布置可布置在真空处理设备的输送轨道上，并且包括遮蔽件框架。遮蔽件框架可以包括至少一片金属遮蔽件和/或侧遮蔽件，所述至少一片金属遮蔽件覆盖掩模载体和/或掩模框架的一侧，所述侧遮蔽件覆盖掩模载体的边缘。