[发明专利]成像装置、成像方法以及存储介质有效
申请号: | 201880049229.0 | 申请日: | 2018-07-18 |
公开(公告)号: | CN110999283B | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
发明(设计)人: | 高岛昌利 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | H04N23/12 | 分类号: | H04N23/12;G03B7/097;H04N23/50;H04N23/67;H04N25/53;A01G7/00;G01N21/27;G03B7/093;G03B7/095 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 程晨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 装置 方法 以及 存储 介质 | ||
1.一种成像装置,包括:
成像单元,包括具有不同光谱特性的多个像素;以及
曝光控制单元,根据用于指定测量对象的种类的指定信息,设置与对所述多个像素的曝光控制相关联的信息,其中:
所述曝光控制单元使用预先存储在数据库中的所述测量对象的光谱特性、所述多个像素中的每个像素的光谱特性、光源的光谱特性以及曝光控制系数来计算作为来自所述多个像素中的每个像素的预测输出的预测值,并且使用所述预测值来设置所述信息,
其中,所述信息被设置为防止所述像素中具有最高预测值的一个像素过度曝光的值。
2.根据权利要求1所述的成像装置,
其中,所述曝光控制单元根据设置的所述信息来控制所述成像单元。
3.根据权利要求1所述的成像装置,
其中,所述信息包括所述多个像素的曝光时间或灵敏度。
4.根据权利要求1所述的成像装置,
其中,所述成像单元包括光阑,并且
所述信息包括所述光阑的开口量。
5.根据权利要求1所述的成像装置,
其中,所述测量对象的种类由用户指定。
6.根据权利要求1所述的成像装置,还包括:
存储单元,存储根据所述指定信息的所述信息,
其中,所述曝光控制单元从所述存储单元读出所述信息。
7.根据权利要求1所述的成像装置,
其中,所述光源的光谱特性包括由照度值传感器测量的值。
8.一种成像方法,包括:
通过由包括具有不同光谱特性的多个像素的成像单元进行成像的成像装置,根据用于指定测量对象的种类的指定信息,设置与对所述多个像素的曝光控制相关联的信息,其中:
使用预先存储在数据库中的所述测量对象的光谱特性、所述多个像素中的每个像素的光谱特性、光源的光谱特性以及曝光控制系数来计算作为来自所述多个像素中的每个像素的预测输出的预测值,并且使用所述预测值来设置所述信息,
其中,所述信息被设置为防止所述像素中具有最高预测值的一个像素过度曝光的值。
9.一种用于记录程序的存储介质,所述程序用于使控制包括成像单元的成像装置的计算机执行包括以下步骤的处理,所述成像单元包括具有不同光谱特性的多个像素:
根据用于指定测量对象的种类的指定信息,设置与对所述多个像素的曝光控制相关联的信息,其中:
使用预先存储在数据库中的所述测量对象的光谱特性、所述多个像素中的每个像素的光谱特性、光源的光谱特性以及曝光控制系数来计算作为来自所述多个像素中的每个像素的预测输出的预测值,并且使用所述预测值来设置所述信息,
其中,所述信息被设置为防止所述像素中具有最高预测值的一个像素过度曝光的值。
10.一种成像装置,包括:
成像单元,包括具有不同光谱特性的多个像素;以及
曝光控制单元,被配置为根据基于与测量对象有关的光谱特性的所述多个像素中的每个像素的预测输出值,设置与对所述多个像素的曝光控制相关联的信息,其中:
所述曝光控制单元通过使用预先存储在数据库中的所述测量对象的光谱特性、所述多个像素中的每个像素的光谱特性、光源的光谱特性以及曝光控制系数来计算所述预测输出值,并且使用所述预测输出值来设置所述信息,
其中,所述信息被设置为防止所述像素中具有最高预测值的一个像素过度曝光的值。
11.根据权利要求10所述的成像装置,
其中,所述曝光控制单元根据设置的所述信息来控制所述成像单元。
12.根据权利要求10所述的成像装置,
其中,所述信息包括所述多个像素的曝光时间或灵敏度。
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