[发明专利]立体光刻设备、光发射控制方法和程序

权利要求书

1.一种立体光刻设备，包括：

光源单元，所述光源单元包括发射用于固化光固化树脂的光的多个发光元件；

光检测器，所述光检测器检测从所述光源单元发射的所述光；以及

控制单元，所述控制单元基于由所述光检测器检测到的所述光生成指示所述光的光量分布的光量分布曲线，并且基于所述光量分布曲线控制所述多个发光元件的光发射；

其中，所述光检测器能够在所述光源单元与所述光检测器之间的距离l不同的状态下检测所述光；

所述控制单元基于在所述距离l不同的状态下分别检测到的光来生成第一光量分布曲线和第二光量分布曲线，并且基于所述第一光量分布曲线和所述第二光量分布曲线来控制所述多个发光元件的光发射；

其中，所述控制单元生成指示所述光的二维光量分布的二维光量分布曲线作为所述光量分布曲线，并且基于所述二维光量分布曲线来控制所述多个发光元件的光发射。

2.根据权利要求1所述的立体光刻设备，其中，

所述控制单元基于所述光量分布曲线校正所述多个发光元件中的每个发光元件的光量。

3.根据权利要求1所述的立体光刻设备，其中，

所述控制单元基于所述光量分布曲线校正所述多个发光元件中的每个发光元件的发光定时。

4.根据权利要求1所述的立体光刻设备，其中，

假设所述光源单元与所述光固化树脂之间的距离是距离L，所述光源单元与所述光检测器之间的距离是距离l，并且所述光源单元相对于所述光固化树脂的曝光深度是D，则满足L≤l≤L+D的条件。

5.根据权利要求1所述的立体光刻设备，其中，

所述控制单元基于所述第一光量分布曲线和所述第二光量分布曲线来校正所述多个发光元件中的每个发光元件的光量。

6.根据权利要求1所述的立体光刻设备，其中，

所述控制单元基于所述第一光量分布曲线和所述第二光量分布曲线来校正所述多个发光元件中的每个发光元件的发光定时。

7.根据权利要求1所述的立体光刻设备，其中，

所述光检测器包括各自位于不同的所述距离l处的第一光检测器和第二光检测器。

8.根据权利要求1所述的立体光刻设备，还包括

移动机构，所述移动机构使所述光源单元和所述光检测器中的至少一个移动以使所述距离l不同。

9.根据权利要求1所述的立体光刻设备，其中，

所述控制单元基于所述二维光量分布曲线来校正所述多个发光元件中的每个发光元件的光量。

10.根据权利要求1所述的立体光刻设备，其中，

所述控制单元基于所述二维光量分布曲线来校正所述多个发光元件中的每个发光元件的发光定时。

11.一种光发射控制方法，包括：

检测从光源单元发射的光，所述光源单元包括发射用于固化光固化树脂的所述光的多个发光元件；

生成指示所述光的光量分布的光量分布曲线；以及

基于所述光量分布曲线控制所述多个发光元件的光发射；

其中，在所述光源单元与检测从所述光源单元发射的光的光检测器之间的距离l不同的状态下检测所述光；

基于在所述距离l不同的状态下分别检测到的光来生成第一光量分布曲线和第二光量分布曲线，并且基于所述第一光量分布曲线和所述第二光量分布曲线来控制所述多个发光元件的光发射；

其中，生成指示所述光的二维光量分布的二维光量分布曲线作为所述光量分布曲线，并且基于所述二维光量分布曲线来控制所述多个发光元件的光发射。

12.一种存储程序的存储介质，所述程序使计算机执行：

检测从光源单元发射的光的步骤，所述光源单元包括发射用于固化光固化树脂的所述光的多个发光元件；

生成指示所述光的光量分布的光量分布曲线的步骤；以及

基于所述光量分布曲线控制所述多个发光元件的光发射的步骤；

其中，在所述光源单元与检测从所述光源单元发射的光的光检测器之间的距离l不同的状态下检测所述光；

基于在所述距离l不同的状态下分别检测到的光来生成第一光量分布曲线和第二光量分布曲线，并且基于所述第一光量分布曲线和所述第二光量分布曲线来控制所述多个发光元件的光发射；

其中，生成指示所述光的二维光量分布的二维光量分布曲线作为所述光量分布曲线，并且基于所述二维光量分布曲线来控制所述多个发光元件的光发射。