[发明专利]立体光刻设备、光发射控制方法和程序

说明书

根据本发明的实施方式的立体光刻设备设置有光源单元、光检测单元和控制单元。光源单元包括发射用于固化光固化树脂的光的多个发光元件。光检测单元检测从光源单元发射的光。控制单元基于由光检测单元检测到的光形成光量分布曲线，所述光量分布曲线示出光的光亮分布，并且根据光量分布曲线控制多个发光元件的光发射。

技术领域

本技术涉及固化光固化树脂以形成待模型化对象的诸如立体光刻设备的技术。

背景技术

传统上广泛已知一种通过使用三维计算机辅助设计(CAD)数据来固化光固化树脂从而形成待模型化为期望形状的对象的立体光刻设备(例如，参见以下专利文献1)。

引用列表

专利文献

专利文献1：日本专利申请公开号2007-90619

发明内容

技术问题

在立体光刻设备中，令人期望的是提供能够精确地控制发光元件的光发射的技术。

鉴于上述情况，本技术的目的是提供能够精确地控制发光元件的光发射的诸如立体光刻设备的技术。

问题的解决方案

根据本技术的实施方式的立体光刻设备包括光源单元、光检测器和控制单元。光源单元包括发射用于固化光固化树脂的光的多个发光元件。光检测器检测从光源单元发射的光。控制单元基于由光检测器检测到的光生成指示光的光量分布的光量分布曲线，并且基于光量分布曲线控制多个发光元件的光发射。

通过这种配置，可以精确地控制多个发光元件的光发射。

在立体光刻设备中，控制单元可以基于光量分布曲线校正多个发光元件中的每个发光元件的光量。

在立体光刻设备中，控制单元可以基于光量分布曲线校正多个发光元件中的每个发光元件的发光定时。

在立体光刻设备中，假设光源单元与光固化树脂之间的距离是距离L，光源单元与光检测器之间的距离是距离l，并且光源单元相对于光固化树脂的曝光深度是D，则可以满足L≤l≤L+D的条件。

在立体光刻设备中，光检测器能够在光源单元与光检测器之间的距离l不同的状态下检测光。

在立体光刻设备中，控制单元可以基于在距离l不同的状态下分别检测到的光来生成第一光量分布曲线和第二光量分布曲线，并且基于第一光量分布曲线和第二光量分布曲线来控制多个发光元件的光发射。

在立体光刻设备中，控制单元可以基于第一光量分布曲线和第二光量分布曲线来校正多个发光元件中的每个发光元件的光量。

在立体光刻设备中，控制单元可以基于第一光量分布曲线和第二光量分布曲线来校正多个发光元件中的每个发光元件的发光定时。

在立体光刻设备中，光检测器可以包括各自位于不同的距离l处的第一光检测器和第二光检测器。

立体光刻设备还可以包括移动机构，该移动机构使光源单元和光检测器中的至少一个移动以使距离l不同。

在立体光刻设备中，控制单元可以生成指示光的二维光量分布的二维光量分布曲线作为光量分布曲线，并且基于二维光量分布曲线来控制多个发光元件的光发射。

在立体光刻设备中，控制单元可以基于二维光量分布曲线来校正多个发光元件中的每个发光元件的光量。

在立体光刻设备中，控制单元可以基于二维光量分布曲线来校正多个发光元件中的每个发光元件的发光定时。