[发明专利]具有掩模对准器的沉积设备、用于遮蔽基板的掩模布置和用于遮蔽基板的方法

说明书

本公开内容提供一种沉积设备(100)，这种沉积设备用于沉积一个或多个层于基板(10)上。沉积设备包括：真空腔室(60)；输送系统(50)，用于输送掩模载体(23)，掩模载体配置为用于支撑掩模框架(21)，掩模框架具有掩模(22)，掩模安装于掩模框架(21)；和对准系统(40)，包括多个第一对准装置(41)，至少部分地设置于真空腔室(60)中，多个第一对准装置(41)接触掩模载体(23)或掩模支撑件；和多个第二对准装置(42)，至少部分地设置于真空腔室(60)中，多个第二对准装置(42)接触掩模框架(21)。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种具有用于调整掩模的位置的掩模对准器的沉积设备，更特别是用于补偿掩模的面内(in-plane)和面外(out-of-plane)变形。本公开内容的实施方式进一步涉及一种用于在处理腔室中遮蔽将进行沉积的基板的掩模布置。此外，本公开内容的实施方式涉及一种用于在处理腔室中遮蔽将沉积的基板的方法，更特别是一种用于补偿掩模的面内和面外变形的方法。

背景技术

例如是有机发光二极管(organic light-emitting diodes，OLED)的使用有机材料的光电装置因许多原因而变得越来越受到欢迎。OLED为发光二极管的一种特别的形式，在OLED中，发光层包括特定的有机化合物的薄膜。使用OLED来制造电视屏幕、计算机屏幕、移动电话、用于显示信息的其他手持装置等。OLED也可用来作为一般空间照明。OLED显示器的可行的颜色、亮度和视角的范围大于传统的液晶显示器(LCD)的可行的颜色、亮度和视角的范围，因为OLED像素直接发光并且不包含背光。相较于传统的LCD显示器的能量损耗，OLED显示器的能量损耗相当地少。此外，可制造于柔性基板上的OLED导致了其他的应用。

OLED通过沉积材料于基板上来实现。已知的数种方法用于这种目的。作为一例子来说，基板可通过使用蒸发工艺、物理气相沉积(physical vapor deposition，PVD)工艺、或化学气相沉积(chemical vapor deposition，CVD)工艺来进行涂布，PVD工艺例如是溅射工艺、喷涂工艺等。这种工艺可在沉积设备的处理腔室中执行，将涂布的基板位在沉积设备的处理腔室中。沉积材料在处理腔室中提供。粒子可举例为通过具有边界或特定图案的掩模来沉积材料于基板上的所需位置，例如于基板上形成OLED图案。多种材料例如是有机材料、分子、金属、氧化物、氮化物和碳化物，可用来沉积于基板上。此外，像是蚀刻、成型(structuring)、退火或类似者的其他工艺可于处理腔室中执行。

举例来说，涂布工艺可视为用于举例为显示器制造技术中的大面积基板。已涂布的基板可用于数种应用中和数种技术领域中。举例来说，一种应用可为OLED面板。其他应用包括绝缘面板、例如是半导体装置的微电子装置、具有薄膜晶体管(thin filmtransistors，TFT)的基板、滤色器或类似者。OLED为由(有机)分子薄膜所组成的固态装置，通过施加电来产生光。作为一例子来说，OLED显示器可在电子装置上提供明亮的显示，及相较于举例为LCD来说使用较少的功率。在处理腔室中，有机分子产生(举例为蒸发、溅射、或喷涂等)和沉积成层于基板上。材料可举例为通过具有边界或特定图案的掩模，以沉积材料于基板上的所需位置来例如形成OLED图案于基板上。

有关于已处理的基板的质量的一个方面，特别是已沉积的层的质量的一个方面为相对于掩模的基板的对准。作为一例子来说，对准应为准确及可重复，以实现良好的工艺结果。因此，使用耦接于基板和/或掩模载体的装置，用于相对于掩模对准基板。然而，掩模的对准可能在掩模面临面内或面外变形时产生问题，掩模面临面内或面外变形是因为例如是举例为温度变化、夹持力、重力或制造工艺所造成的预变形的各种因素。

有鉴于上述，需要可补偿掩模的面内和面外变形的对准器、布置、设备和方法。

发明内容

有鉴于上述，提出一种用于遮蔽基板的沉积设备、掩模布置和方法。本公开内容的其他方面、优点和特征从从属权利要求、说明书和所附附图更为清楚。