[发明专利]用于捕获在材料路径上行进的材料的容器在审

专利信息
申请号: 201880054900.0 申请日: 2018-08-10
公开(公告)号: CN111034367A 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: A·B·里丁格;K·J·斯卡菲迪;M·A·小佩里 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H05G2/00 分类号: H05G2/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;崔卿虎
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 捕获 材料 路径 行进 容器
【权利要求书】:

1.一种靶材料容器,包括:

包括在第一方向上延伸的通路的结构,所述通路被配置为接收沿靶材料路径行进的靶材料;以及

偏转器系统,被配置为从所述通路接收靶材料,所述偏转器系统包括多个偏转器元件,其中每个偏转器元件相对于所述靶材料的实例沿所述靶材料路径行进的行进方向以第一锐角被定向,并且所述偏转器系统中的每个偏转器元件与最近的偏转器元件沿第二方向分开一定距离,所述第二方向与所述第一方向不同。

2.根据权利要求1所述的靶材料容器,其中所述结构进一步包括基部,所述基部包括耦合至所述通路的内部。

3.根据权利要求2所述的靶材料容器,其中所述偏转器系统的至少一部分被定位所述基部的所述内部中,所述基部的侧面相对于所述第一方向呈底角角度,并且所述基部的所述侧面在所述第二方向上延伸。

4.根据权利要求1所述的靶材料容器,其中每个偏转器元件包括相对于所述靶材料路径以所述第一锐角被定向的第一部分以及从所述第一部分延伸的端部,所述端部包括实质上平行于所述靶材料路径延伸的尖端。

5.根据权利要求4所述的靶材料容器,其中每个偏转器元件的所述端部进一步包括包含表面的主体,并且所述主体的所述表面与所述靶材料路径形成第二锐角。

6.根据权利要求5所述的靶材料容器,其中所述第二锐角等于或小于所述第一锐角。

7.根据权利要求4所述的靶材料容器,其中每个偏转器元件的所述第一部分包括在第一平面中延伸的板,所述板在所述第一平面中具有第一范围并且在第二平面中具有第二范围,所述第二平面正交于所述第一平面并且所述第二范围小于所述第一范围。

8.根据权利要求4所述的靶材料容器,其中所述靶材料的实例是实质上球形的并且具有直径,每个尖端具有被配置为与所述靶材料的实例相互作用的表面,所述尖端的所述表面在至少一个方向上具有小于所述靶材料的实例的所述直径的范围。

9.根据权利要求1所述的靶材料容器,其中每个偏转器元件包括至少一个表面特征,所述至少一个表面特征被配置为减少靶材料对所述偏转器元件的表面的粘附,所述表面特征包括纹波、具有特定粗糙度的区域、经氧化的区域、凹槽的图案和/或与所述偏转器元件的所述表面的其他部分中使用的材料不同的材料的涂层。

10.根据权利要求1所述的靶材料容器,其中在任何两个相邻的偏转器元件之间沿所述第二方向的所述距离相同。

11.根据权利要求1所述的靶材料容器,其中对于所有所述偏转器元件,所述第一锐角相同。

12.根据权利要求1所述的靶材料容器,其中每个偏转器元件是板,并且所述偏转器元件沿所述第二方向分开,使得所述板中的任一个均平行于所有其他板。

13.根据权利要求1所述的靶材料容器,其中所述靶材料容器被配置为用于极紫外(EUV)光源中,并且所述靶材料包括当处于等离子体状态时发射EUV光的材料。

14.一种极紫外(EUV)光源,包括:

光源,被配置为产生光束;

器皿,被配置为在等离子体形成位置处接收所述光束;

供给系统,被配置为产生沿靶标路径朝向所述等离子体形成位置行进的靶标;以及

靶材料容器,包括:

包括在第一方向上延伸的通路的结构,所述通路被定位为接收在所述靶标路径上行进的并且穿过所述等离子体形成位置的靶标;以及

偏转器系统,被配置为从所述通路接收靶标,所述偏转器系统包括多个偏转器元件,其中每个偏转器元件相对于材料的实例沿所述靶材料路径行进的行进方向以第一锐角被定向,并且所述偏转器系统中的每个偏转器元件与最近的偏转器元件沿第二方向分开一定距离,所述第二方向与所述第一方向不同。

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