[发明专利]流体流动设备

权利要求书

1.一种设备，其用于控制流体从所述设备的上游侧到所述设备的下游侧通过导管流动，所述设备包括：

壳体，其限定阀孔；

圆柱形安装构件，其布置在所述阀孔的所述下游侧；

阀构件，其能够移动地安装在所述圆柱形安装构件的外表面上，其中所述阀构件布置成往复移动以选择性地打开和关闭所述阀孔，从而控制所述流体通过所述阀孔进行的流动；

软密封件，其布置在所述壳体上以用于当所述阀构件接触所述壳体时基本上密封所述阀孔，其中所述软密封件位于所述壳体的凸起弯曲表面的下游，并且其中所述凸起弯曲表面被成形为将通过所述阀孔进行的所述流体的流动与所述壳体的所述表面分离开，使得所述流体不直接冲击所述软密封件；以及

另一个密封件，其布置在所述阀构件和所述圆柱形安装构件的外表面之间。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述阀构件布置成与所述壳体的所述下游侧接触以关闭所述阀孔。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述软密封件布置成使得所述阀构件直接接触所述软密封件。

4.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述软密封件位于所述阀孔的下游。

5.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述软密封件定位在所述壳体的面向下游的表面上。

6.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述软密封件位于所述壳体的表面上，所述表面是所述壳体的所述凸起弯曲表面的下游延伸部。

7.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述壳体包括在所述凸起弯曲表面的下游的槽，并且所述软密封件位于所述槽中。

8.根据权利要求1或2所述的设备，其中在所述软密封件上游的所述凸起弯曲表面的曲率半径小于所述软密封件所位于的所述表面的曲率半径。

9.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述凸起弯曲表面是连续弯曲的。

10.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述壳体的所述凸起弯曲表面延伸通过至少45度的角度。

11.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述壳体包括在所述软密封件的上游的偏转器，所述偏转器布置成使通过所述阀孔进行的所述流体的流动偏转离开所述软密封件。

12.根据权利要求11所述的设备，其中所述偏转器包括自所述壳体的所述表面的突起。

13.根据权利要求11所述的设备，其中所述壳体包括可移动偏转器，其中所述阀构件布置成当所述阀构件接触所述壳体时移动所述偏转器。

14.根据权利要求13所述的设备，其中所述阀构件布置成轴向地移动所述偏转器。

15.根据权利要求13所述的设备，其中所述偏转器包括能够通过所述阀构件移动的所述壳体的部分。

16.根据权利要求13所述的设备，其中所述偏转器朝向所述阀构件弹性地偏置。

17.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述壳体的所述凸起弯曲表面延伸通过至少90度的角度。

18.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述壳体的所述凸起弯曲表面延伸通过至少120度的角度。

19.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述壳体的所述凸起弯曲表面延伸通过至少135度的角度。