[发明专利]流体流动设备有效
申请号: | 201880056756.4 | 申请日: | 2018-09-18 |
公开(公告)号: | CN111051750B | 公开(公告)日: | 2022-11-04 |
发明(设计)人: | B·霍尔;M·柯林斯;T·波维 | 申请(专利权)人: | OFIP有限公司 |
主分类号: | F16K1/46 | 分类号: | F16K1/46 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王小东;黄纶伟 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 流体 流动 设备 | ||
一种设备(1),其用于控制流体从所述设备的上游侧(6)到所述设备的下游侧(8)通过导管流动。所述设备包括限定阀孔(18)的壳体(16)和布置在所述阀孔的所述下游侧上的安装构件(12)。阀构件(14)可移动地安装在所述安装构件上,并且布置成选择性地打开和关闭所述阀孔以控制流体流动。软密封件(36)布置在所述壳体上以用于当所述阀构件接触所述壳体时基本上密封所述阀孔。所述软密封件位于所述壳体的凸起弯曲表面的下游,所述凸起弯曲表面成形为将通过所述阀孔进行的所述流体流动与所述壳体的所述表面分离开,使得所述流体不直接冲击所述软密封件。
本发明涉及一种用于控制流体的流动通过的设备,更具体地,涉及一种包括阀构件的设备,该阀构件用于打开和关闭阀孔以控制流体通过设备的流动。
在诸如管道和导管的流体流动系统中,例如,如在许多不同的工业环境中可以发现,需要调节流体流动流中的压力。在此类系统中,输入压力可以是恒定的或随时间波动的,并且希望控制到较低的目标输出压力,该目标输出压力也可以是恒定的或波动的。
可以使用压力调节器来调节此类系统中的压力,例如,如申请人在先前的申请WO2013/068747 A1中所公开的,其布置成控制导管中的下游压力。由阀构件选择性地控制通过压力调节器的流量,该阀构件例如根据导管下游侧、导管上游侧中的一个或多个压力以及布置成作用在阀构件上的控制压力来打开和关闭多个阀孔。
在此类压力调节器中,阀构件和压力调节器壳体之间的密封件有助于在阀孔由阀构件完全关闭时,即在“切断”时,最小化通过阀孔的流体泄漏。
本发明的目的是提供一种用于控制具有改进的切断的通过导管的流体流动的设备。
当从第一方面来看时,本发明提供了一种用于控制流体从设备的上游侧到设备的下游侧通过导管流动的设备,该设备包括:
壳体,其限定阀孔;
安装构件,其布置在阀孔的下游侧;
阀构件,其可移动地安装在安装构件上,其中阀构件布置成往复移动以选择性地打开和关闭阀孔,从而控制流体通过阀孔进行的流动;以及
软密封件,其布置在壳体上以用于当阀构件接触壳体时基本上密封阀孔,其中软密封件位于壳体的凸起弯曲表面的下游,并且其中凸起弯曲表面成形为将通过阀孔的流体的流动与壳体的表面分离开,使得流体不会直接冲击软密封件。
本发明提供了一种设备,其用于控制(例如,压力调节)流体通过导管(例如,该设备放置在该导管中)流动。在该设备的上游侧和该设备的下游侧之间控制流体通过该设备流动,其中例如,设备的阀孔限定了上游侧和下游侧之间的边界。由可移动地安装在安装构件上的阀构件来控制流体通过阀孔进行的流动,并且从而控制流体通过设备从上游侧到下游侧流动。安装构件布置在阀孔下游的设备中(并且因此优选地,阀构件布置在阀孔下游),并且阀构件布置成在安装构件上往复移动以选择性地打开和关闭阀孔,从而可以控制流体通过阀孔进行的流动。
软密封件设置在设备的壳体的凸起弯曲表面的下游,其限定阀孔。当阀构件接触壳体(并且因此也接触壳体上的软密封件)时,软密封件布置成并作用成基本上密封阀孔。壳体的凸起弯曲表面成形为使得当阀构件定位成使得阀孔至少部分打开并且因此流体流过阀孔(并且因此,流过壳体的凸起弯曲表面)时,凸起弯曲表面的形状使得通过阀孔的流体的流动与凸起弯曲表面分离开,并因此远离壳体的表面。由于软密封件位于凸起弯曲表面的下游,流体流动与凸起弯曲表面的这种分开意味着流体流动不会直接冲击软密封件。
因此,可以理解的是,通过将软密封件定位在凸起弯曲表面下游的壳体上以使得流体流动与表面分开,软密封件位于流体流动之外并与流体流动屏蔽开。这有助于减少流体流对软密封件的磨损,尤其是当流体流动含有夹带在流体中的磨料颗粒时。减少软密封件(其可能易于腐蚀)的磨损有助于提高流体流动控制设备的可靠性和耐用性。
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