[发明专利]用于从物体保持件移除污染物的研磨工具和方法

权利要求书

1.一种对保持件的支撑表面进行处理的方法，所述保持件被配置为保持物体，所述物体保持件包括多个突出部，所述突出部从所述保持件的主体延伸，并且被配置为提供针对所述物体的支撑表面，所述方法包括：

提供研磨工具，所述研磨工具包括基本平坦的表面，用于定位在所述物体保持件上、并且与所述物体保持件接触；

将所述研磨工具的所述基本平坦的表面定位成与所述物体保持件的所述支撑表面接触；以及

在所述研磨工具与所述支撑表面接触时，提供所述研磨工具与所述物体保持件的至少一部分之间的相对移动，以从所述突出部移除污染物，

其中所述研磨工具的所述基本平坦的表面在所述基本平坦的表面的预定区域内具有选自约1nm Ra至约100nm Ra的范围的粗糙度、具有小于或等于约3000nm的平坦度，或者所述基本平坦的表面在所述基本平坦的表面的所述预定区域内具有至少约15nm Ra的粗糙度、并且具有小于或等于约3000nm的平坦度。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述研磨工具的所述基本平坦的表面具有选自约1nm Ra至约100nm Ra的范围的粗糙度。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述研磨工具的所述基本平坦的表面在所述基本平坦的表面的所述预定区域内具有小于或等于约500nm的平坦度。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的方法，其中所述预定区域在所述预定区域内具有小于或等于约150nm/cm的平坦度每所述预定区域的单位横向尺寸。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的方法，还包括：利用溶剂来润湿所述研磨工具的所述基本平坦的表面与所述支撑表面的接触区域。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述润湿包括：在将所述研磨工具定位成与所述支撑表面接触之前，向所述研磨工具的所述基本平坦的表面应用所述溶剂，和/或所述润湿包括：在将所述研磨工具定位成与所述支撑表面接触之前，向所述支撑表面应用所述溶剂。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的方法，还包括：

将所述研磨工具的除所述基本平坦的表面之外的接触表面、或另一研磨工具的接触表面定位成与所述物体保持件的所述支撑表面接触，其中所述接触表面基本平坦；以及

在所述接触表面与所述支撑表面接触时，提供所述接触表面与所述物体保持件的至少一部分之间的相对移动，来将所述支撑表面的一部分粗糙化，

其中所述接触表面具有至少约100nm Ra的粗糙度。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述接触表面在所述接触表面的预定区域内具有小于或等于约3000nm的平坦度。

9.根据权利要求7或权利要求8所述的方法，还包括：利用溶剂润湿所述接触表面和所述支撑表面的接触区域。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述润湿包括：在将所述接触表面定位成与所述支撑表面接触之前，向所述接触表面应用所述溶剂，和/或所述润湿包括：在将所述接触表面定位成与所述支撑表面接触之前，向所述支撑表面应用所述溶剂。

11.根据权利要求1至10中的任一项所述的方法，其中与所述支撑表面接触的研磨工具表面包括具有大于约10GPa的硬度的材料。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述硬度选自约10GPa至约30GPa的范围。

13.根据权利要求1至12中的任一项所述的方法，其中所述研磨工具包括石头或陶瓷材料。