[发明专利]辐射源在审

专利信息
申请号: 201880061395.2 申请日: 2018-08-16
公开(公告)号: CN111133840A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: R·L·唐克;H-K·尼恩惠斯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H05G2/00 分类号: H05G2/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王静
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 辐射源
【权利要求书】:

1.一种辐射源,包括:

发射器,配置成朝向等离子体形成区发射燃料目标;

激光系统,配置成用激光束撞击所述燃料目标以在所述等离子体形成区处产生等离子体;

收集器,布置成收集由所述等离子体发射的辐射;

成像系统,配置成捕获所述燃料目标的图像;

在所述收集器处并在所述成像系统的视场内的标识;以及

控制器,配置成:

接收表示所述图像的数据;和

依赖于所述数据控制所述辐射源的操作。

2.根据权利要求1所述的辐射源,包括在所述收集器处并在所述成像系统的视场内的第二标识。

3.根据权利要求1所述的辐射源,其中:

所述成像系统包括第一成像装置、第二成像装置、分束系统和背光源;

所述背光源配置成用照射束照射所述燃料目标和所述标识;

所述分束系统配置成:

接收受所述燃料目标影响的所述照射束的第一部分;

接收受所述标识影响的所述照射束的第二部分;

将所述第一部分引导至所述第一成像装置;以及

将所述第二部分引导至所述第二成像装置。

4.根据权利要求3所述的辐射源,其中:

所述辐射源包括在所述收集器处并在所述成像系统的视场内的第二标识;

所述成像系统包括第三成像装置;

所述背光源配置成用所述照射束照射所述第二标识;

所述分束系统配置成:

接收受所述第二标识影响的所述照射束的第三部分;和

将所述第三部分引导至所述第三成像装置。

5.根据权利要求1或3所述的辐射源,包括:

另一成像系统,配置成捕获所述燃料目标的另一图像;和

在所述收集器处并在所述另一成像系统的另一视场内的另一标识;

其中:

所述成像系统配置成从预定视角捕获所述燃料目标的图像;

所述另一成像系统配置成从不同于所述预定视角的另一预定视角捕获所述燃料目标的另一图像;

所述控制器配置成:

接收表示所述另一图像的另一数据;和

依赖于所述另一数据控制所述辐射源的操作。

6.根据权利要求5所述的辐射源,包括在所述收集器处并在所述另一成像系统的另一视场内的另一第二标识。

7.根据权利要求1、2、3、4、5或6所述的辐射源,其中所述控制器配置成处理所述数据以确定所述燃料目标相对于所述收集器的位置。

8.根据权利要求7所述的辐射源,其中所述控制器配置成控制以下中的至少一个:所述燃料目标的轨迹;所述激光束的位置;所述激光束的方向;所述收集器的位置;所述收集器的光轴的方向。

9.根据权利要求3或4所述的辐射源,其中所述标识包括主体,所述主体实质上对于照射所述主体的照射束辐射不透明。

10.根据权利要求4或9所述的辐射源,其中所述第二标识包括第二主体,所述第二主体实质上对于照射所述第二主体的照射束不透明。

11.根据权利要求9或10所述的辐射源,其中所述主体具有孔,所述孔用于允许照射所述主体的照射束的部分通过。

12.根据权利要求10或11所述的辐射源,其中所述第二主体具有第二孔,所述第二孔用于允许照射所述第二主体的照射束的第二部分通过。

13.根据权利要求3或4所述的辐射源,其中所述标识包括十字线。

14.根据权利要求4或13所述的辐射源,其中所述第二标识包括第二十字线。

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