[发明专利]辐射源

说明书

一种辐射源包括：发射器，用于朝向等离子体形成区发射燃料目标；激光系统，用于用激光束撞击目标以产生等离子体；收集器，用于收集由等离子体发射的辐射；成像系统，配置成捕获目标的图像；在所述收集器处并在成像系统的视场内的一个或更多个标识；和控制器。控制器接收表示图像的数据；和依赖于所述数据控制辐射源的操作。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年9月20日提交的欧洲申请17192117.4的优先权，该欧洲申请通过引用全文并入本文。

技术领域

本发明涉及一种用于与光刻设备一起使用的辐射源。

背景技术

光刻设备是一种构造为将所期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备能够例如用于集成电路(IC)的制造中。光刻设备可例如将来自图案形成装置(例如，掩模)的图案投影到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层上。

光刻设备用于将图案投影到衬底上的辐射波长决定了能够在该衬底上形成的特征的最小尺寸。使用EUV辐射(具有在4-20nm范围内的波长的电磁辐射)的光刻设备可用于在衬底上形成比常规光刻设备(所述常规光刻设备可以例如使用波长为193nm的电磁辐射)更小的特征。

可以通过使用布置成产生产生EUV的等离子体的辐射源来产生EUV辐射。产生EUV的等离子体可以例如通过激励辐射源内的燃料产生。

发明内容

本发明的一方面涉及一种辐射源，包括：发射器，配置成朝向等离子体形成区发射燃料目标；激光系统，配置成用激光束撞击所述燃料目标以在所述等离子体形成区处产生等离子体；收集器，布置成收集由所述等离子体发射的辐射；成像系统，配置成捕获所述燃料目标的图像；在所述收集器处并在所述成像系统的视场内的标识；和控制器，配置成接收表示所述图像的数据和依赖于所述数据控制所述辐射源的操作。术语“收集器”在这里与表述“辐射收集器”互换地使用。术语“发射器”在这里与表述“燃料发射器”互换地使用。此外，成像系统可以包括一个或更多个成像装置，例如一个或更多个照相机。特征“在收集器处的标识”指示在操作使用标识时标识和收集器之间的固定的空间关系，例如通过将标识安装在收集器处。成像系统可以包括一个或更多个成像装置，例如成像系统可以包括一个或更多个照相机。

捕获标识结合燃料目标的图像实现了确定燃料目标和收集器之间的相对空间关系，或至少确定该相对空间关系的性质。例如，控制器可以配置成处理所述数据以确定燃料目标相对于收集器的位置。控制器可以配置成控制以下中的至少一个：通过调整燃料发射器的位置和/或方向的所述燃料目标的轨迹；所述激光束的位置和/或方向；所述收集器的位置和/或方向。

以此方式，可以优化辐射源的操作。特别地，通过响应于第一图像而修改辐射源的至少一个部件的操作，可以比先前能达成的快得多地实现最佳等离子体产生和/或比先前能达成的维持更长的时间段的最佳等离子体产生。

在实施例中，辐射源包括在所述收集器处并在成像系统的视场内的第二标识。因此，相对位置的附加性质能被确定。

在实施例中，成像系统包括第一成像装置、第二成像装置、分束系统和背光源。背光源配置成用照射束照射燃料目标和标识。分束系统配置成接收被燃料目标影响的照射束的第一部分，并接收被标识影响的照射束的第二部分。分束系统还配置成将第一部分引导至第一成像装置，并将第二部分引导至第二成像装置。当第一成像装置和第二成像装置接收表示位于不同位置处的不同物理特征的照射束的不同部分时，第一成像装置和第二成像装置中的每个单独的一个成像装置能够独立地使得不同物理特征中的相关的一个物理特征处于聚焦。

辐射源可以包括在收集器处和位于成像系统的视场内的第二标识，成像系统于是可以包括第三成像装置。背光源于是可以配置成也用照射束照射第二标识。分束系统于是配置成接收被第二标识影响的照射束的第三部分；并将第三部分引导至第三成像装置。