[发明专利]检查装置的光学布置

权利要求书

1.一种检查装置，包括：

光学系统，被配置为向待测表面提供辐射的射束并且从所述表面接收重定向的辐射；以及

检测系统，被配置为测量所述重定向的辐射，

其中所述光学系统包括光学元件，所述光学元件用于处理所述辐射，所述光学元件包括MacNeille型多层偏振涂层，所述MacNeille型多层偏振涂层被配置为产生所述辐射的减小的色偏，

其中所述偏振涂层包括层的重复组合的第一叠层和层的重复组合的第二叠层，其中所述第二叠层中的所述层中的至少一个层的厚度不同于所述第一叠层中的各个层的厚度，

其中所述第一叠层的层的所述组合的厚度大于所述第二叠层的层的所述组合的厚度，并且与所述第二叠层相比较，所述第一叠层更远离首先接收所述辐射的所述涂层的所述表面。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述偏振涂层在至少500nm至900nm的所述辐射波长范围内产生小于或等于10微米的色偏。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述偏振涂层在至少500nm至900nm的所述辐射波长范围内产生至少100的消光比。

4.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一叠层的所述层的材料与所述第二叠层的所述层的材料相同。

5.根据权利要求1或4所述的装置，其中在所述第二叠层中重复的所述组合的所述层的所述厚度的比例是在所述第一叠层中重复的所述组合的所述层的厚度的比例的倍数。

6.根据权利要求1、2和4中任一项所述的装置，其中所述偏振涂层还包括：与所述第一叠层的层的材料相同的材料的层，该层邻接所述第一叠层以具有所述第一叠层的所述材料的层的对称布置；和/或与所述第二叠层的层的材料相同的材料的层，该层邻接所述第二叠层以具有所述第二叠层的所述材料的层的对称布置。

7.根据权利要求1、2和4中任一项所述的装置，其中所述光学元件包括其他多层偏振涂层，其中所述MacNeille型多层偏振涂层在第一方向或方位上提供第一色偏，并且所述其他多层偏振涂层在第二不同的方向或方位上提供第二色偏，使得所述第一色偏和所述第二色偏的组合色偏小于所述第一色偏和所述第二色偏。

8.一种测量方法，所述方法包括：

向待测表面提供辐射的射束并且从所述表面接收重定向的辐射，其中所述辐射使用光学元件进行处理，所述光学元件包括被配置为产生所述辐射的减小的色偏的MacNeille型多层偏振涂层；以及

检测所述重定向的辐射以获得测量，

其中所述偏振涂层包括层的重复组合的第一叠层和层的重复组合的第二叠层，其中所述第二叠层中的所述层中的至少一个层的厚度不同于所述第一叠层中的各个层的厚度，

其中所述第一叠层的层的所述组合的厚度大于所述第二叠层的层的所述组合的厚度，并且与所述第二叠层相比较，所述第一叠层更远离首先接收所述辐射的所述涂层的所述表面。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述偏振涂层在至少500nm至900nm的所述辐射波长范围内产生小于或等于10微米的色偏。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其中所述偏振涂层在至少500nm至900nm的所述辐射波长范围内产生至少100的消光比。

11.根据权利要求8所述的方法，其中所述光学元件包括其他多层偏振涂层，其中所述MacNeille型多层偏振涂层在第一方向或方位上提供第一色偏，并且所述其他多层偏振涂层在第二不同的方向或方位上提供第二色偏，使得所述第一色偏和所述第二色偏的组合色偏小于所述第一色偏和所述第二色偏。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述第一叠层的所述层的材料与所述第二叠层的所述层的材料相同。