[发明专利]设备和真空腔

权利要求书

1.一种用于在真空中无滑动摩擦和无润滑剂移动的设备(50、50’、50”)，包括：

固定位置轨道(2’)，

通过磁力可移动的轨道(4’)，

至少两个、至多四个球形主体(5)，其构造为使所述可移动的轨道(4’)能够相对于所述固定位置轨道(2’)移动，其中，所述球形主体(5)布置在所述固定位置轨道(2’)与所述可移动的轨道(4’)之间，以及

单元(7)，其构造为通过磁耦合相对于所述固定位置轨道(2’)移动所述可移动的轨道(4’)并在成功移动之后保持所述可移动的轨道(4’)。

2.根据权利要求1所述的设备，

其特征在于，

所述球形主体(5)构造为使得所述可移动的轨道(4’)相对于所述固定位置轨道(2’)线性移动。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的设备，

其特征在于，

所述可移动的轨道(4’)具有用于每个球形主体(5)的单独表面(13)，在所述单独表面(13)处，单独表面接触所述球形主体(5)。

4.根据权利要求3所述的设备，

其特征在于，

每个单独表面(13)具有两个基台(14)。

5.根据权利要求4所述的设备，

其特征在于，

每个球形主体(5)构造为在所述两个基台(14)之间被来回地线性引导。

6.根据权利要求4所述的设备，

其特征在于，

可线性地移位的可移动的轨道(4’)能行进的路径长度由至少所述两个基台(14)之间的间隔形成。

7.根据权利要求4所述的设备，

其特征在于，

所述基台(14)设置在所述可移动的轨道(4’)处或者所述固定位置轨道(2’)处。

8.根据权利要求4所述的设备，

其特征在于，

所述可移动的轨道(2’)具有至少两个凹部(12)，并且其中每个凹部(12)构造为容纳一个球形主体(5)。

9.根据权利要求8所述的设备，

其特征在于，

每个凹部(12)具有单独表面(13)和所述两个基台(14)。

10.根据权利要求9所述的设备，

其特征在于，

所述两个基台(14)布置为至少基本上垂直于所述单独表面(13)，以及所述单独表面(13)布置为至少基本上平行于所述固定位置轨道(2’)。

11.根据权利要求1所述的设备，

其特征在于，

所述可移动的轨道(4’)包括联接腹板(10)，所述联接腹板(10)构造为用于与所述单元(7)进行磁耦合，并且其中，所述可移动的轨道(4’)相对于所述固定位置轨道(2’)的移动由所述联接腹板(10)的移动所诱导。

12.根据权利要求8所述的设备，

其特征在于，

所述可移动的轨道(4’)具有联接腹板(10)，所述联接腹板(10)构造为用于与所述单元(7)进行磁耦合，并且其中，所述可移动的轨道(4’)相对于所述固定位置轨道(2’)的移动由所述联接腹板(10)的移动所诱导；并且

其中，所述联接腹板(10)设置为邻接至少一个凹部(12)。

13.根据权利要求12所述的设备，

其特征在于，

所述联接腹板(10)设置在所述两个凹部(12)之间。

14.根据权利要求1所述的设备，

其特征在于，

至少一个引导槽(18)设置在所述可移动的轨道(4’)处，在所述至少一个引导槽(18)中引导所述球形主体(5)以预限定所述可移动的轨道(4’)的线性移动。