[发明专利]光反射率低的涂漆

权利要求书

1.一种涂覆基材的方法，包括以下步骤：

（i）提供在溶剂中的染料和粘合剂的悬浮液，其中染料与粘合剂的比例大于40 wt%并且所述染料均匀分散在所述溶剂中；

（ii）将所述悬浮液喷涂到所述基材上，其中大部分所述溶剂在所述喷涂步骤中蒸发，以在所述基材上产生染料和粘合剂的多孔涂层；以及

（iii）继续步骤（ii），直至涂层厚度为至少30微米；

其中，所述染料不包括任何碳纳米管，

其特征在于，所述基材上的所述染料和粘合剂的涂层具有最高达0.75gcm^-3的密度，以产生充当光学陷阱以抑制光反射的孔或空腔。

2.如权利要求1所述的方法，其中步骤（ii）中涂覆到所述基材上的所述悬浮液的流速为0.05 g/s至2 g/s每cm^-2。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述染料是基于炭黑的染料。

4.如权利要求1所述的方法，其中所述粘合剂是聚乙酸乙烯酯，或乙酸乙烯酯、新癸酸乙烯酯和(甲基)丙烯酸酯的混合物，或者所述粘合剂是丙烯酸类的。

5.如权利要求1所述的方法，其中所述溶剂是乙酸乙酯、丙酮、乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲基乙基酮、乙基异丙基酮、环戊酮、2-己酮、甲醇、乙醇或二甲基甲醇。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述溶剂与粘合剂的比例为2:1至14:1。

7.如权利要求6所述的方法，其中所述溶剂与粘合剂的比例为8:1至14:1。

8.如权利要求1所述的方法，其中控制步骤（ii）中溶剂的蒸发，使得产生的涂层具有尺寸在100nm至700nm范围内的空腔。

9.如权利要求1所述的方法，其中所述染料为颗粒形式。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述染料颗粒的平均尺寸为50nm至10µm。

11.如权利要求1所述的方法，其中步骤（i）中所述染料与粘合剂的比例大于120 wt%。

12.如权利要求1所述的方法，其中所述溶剂具有的沸点低于120℃。

13.如权利要求1所述的方法，包括以下附加步骤：

（iv）等离子体蚀刻步骤（iii）的所述涂层，以从所述涂层结构中选择性地除去粘合剂，从而产生额外的光捕获空腔，并使更多的吸收性染料暴露于入射光子。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述等离子体蚀刻以0.05Wcm^-2至0.3Wcm^-2的功率密度进行。

15.如权利要求14所述的方法，其中所述功率密度为约0.1 Wcm^-2。

16.如权利要求13所述的方法，其中所述等离子体蚀刻进行60至1200秒的时间。

17.如权利要求13所述的方法，其中所述等离子体蚀刻在0.1至2托的压力下进行。

18.如权利要求13所述的方法，其中步骤（iv）在氧气、O₂和N₂的混合物、或O₂和He的混合物的存在下进行。