[发明专利]光反射率低的涂漆有效

专利信息
申请号: 201880065058.0 申请日: 2018-10-08
公开(公告)号: CN111225749B 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 本·波尔·詹森;费奥纳-梅雷亚德·麦克纳;威廉·约翰·克里斯蒂安·卢德兰 申请(专利权)人: 萨里纳米系统有限公司
主分类号: B05D1/02 分类号: B05D1/02;C09D5/00;C09D7/40;C09D129/04;G02B5/22;F24S70/20;C09D131/04
代理公司: 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 代理人: 王晖;刘书芝
地址: 英国萨*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 反射率 涂漆
【说明书】:

涂覆基材的方法包括步骤:(i)提供在溶剂中的染料和粘合剂的悬浮液,其中染料与粘合剂的比例大于40wt%并且染料均匀分散在溶剂中;(ii)将所述悬浮液喷涂到基材上,其中大部分溶剂在喷涂步骤中蒸发,以在基材上产生密度最高达0.75gcm‑3的染料和粘合剂的涂层;和(iii)继续步骤(ii),直至涂层厚度为至少30微米;其中,染料不包括任何碳纳米管。

技术领域

本申请涉及涂覆基材的方法,特别是以具有低光反射率的涂漆涂覆基材的方法。其还涉及涂层本身。

背景技术

长期以来,一直在努力为各种工业和科学应用生产具有极低反射率的环境稳定的涂层和装置。这些在成像系统、校准目标、仪器、光导、挡板、杂散光抑制以及许多其他用途中都很重要。

为了在商业上有用,这些涂层必须具有尽可能最低的反射率,并且能够在大面积上具有基本均匀的光吸收。同样重要的是,它们应优选表现出平坦的光谱响应、暴露至真空时的低释气、低的颗粒掉落的对机械冲击和振动的高抗性、良好的热冲击抗性和潮湿抗性。这些是许多工业和科学应用的关键要求,因为涂层通常位于高灵敏度电子探测器,诸如CCD(电荷耦合器件)或微测热辐射热计。来自此类涂层的任何污染都将不可避免地聚集或凝结在检测器上,从而使它们出现故障或将其性能降低到超出可接受的阈值。

产生具有低光反射率的表面的一种方法是采用涂层形式的碳纳米管。本申请人已经开发出反射率非常低的涂层和涂覆方法,并且这些公开在其PCT公开WO2017/033031和WO2017/033027号中,其内容通过引用并入本文。

由碳纳米管形成的吸收体涂层可以是降低反射率的非常有效的方法。然而,它们的制备相对昂贵,并且所产生的表面容易被物理接触损坏。同样,由于碳纳米管的物理性质(当呈粉末状时,它们会对眼睛和粘膜产生强烈刺激),因此这种涂层不应用于可能会直接接触或磨损的易于人类暴露的区域。由于需要许多额外的安全系统来将工人与生产环境分开,因此制备它们的成本也很高。

本申请寻求提供一种用不包含碳纳米管但同时提供相当的光吸收的低反射率涂料涂覆基材的改进方法。

EP 2 466 341 A1(Fujifilm Corporation)公开了一种在基材或透镜模块的表面上涂覆黑色抗性层的方法,以防止由于反射光引起的重影和眩光等。抗性组合物可以包括黑色颜料(例如炭黑)、溶剂和分散液。因为所公开的方法涉及使用光刻法曝光图案,所以抗性组合物可以包括光敏组分、光聚合引发剂和敏化剂。可以将抗性层喷涂在基材上,从而得到可光固化的固体膜。没有引用所得抗性层的总半球反射率值。相反的是,所引用的反射率水平是与法线成5度角并以金属膜为基准测量,因此仅表示定向反射率水平(单向反射率),该值将大大低于总半球反射率(THR),即材料反射率的一种度量,其中入射光与法线成8度角入射,并且所有角度的反射都由散射积分球收集。

其他较差的涂层公开于US 5,490,893;WO 2011/133000;EP 3 159 741;WO 2008/133887;US 5,725,807和US 4,197,221。

WO 94/17147 A1(PPG)公开了一种用于内墙的涂料混合物,该涂料混合物可通过喷涂施用,其包含作为填料的基本上细分的纤维素纤维、纤维素或淀粉基粘合剂、水和发泡剂,其中该混合物还可包含少量的添加剂或助剂,按纤维素纤维计算的粘合剂的量为3至15重量%,混合物的干物质含量高于约12重量%。本发明还涉及用于制备和施用涂料混合物的方法。

CN 105860719 A(Qingdao Air)公开了一种可喷涂烘烤型水溶性阻尼涂料及其制备方法。可喷涂烘烤型水溶性阻尼涂料由10-50份丙烯酸类乳液、5-20份乳化剂、0.1-10份中和剂、1-20份分散剂、1-15份助溶剂、10-80份颜料填料和1-50份水制备。

本申请寻求提供一种用低反射率涂料涂覆基材的改进方法。

根据本发明的第一方面,提供了一种涂覆基材的方法,包括以下步骤:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于萨里纳米系统有限公司,未经萨里纳米系统有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880065058.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top