[发明专利]弹性微孔表面结构及其制造方法有效
申请号: | 201880065074.X | 申请日: | 2018-11-07 |
公开(公告)号: | CN111182814B | 公开(公告)日: | 2023-06-09 |
发明(设计)人: | 孙光伍;孙相烈;李剌罗;马奇亨 | 申请(专利权)人: | 孙光伍;孙相烈 |
主分类号: | A45D33/34 | 分类号: | A45D33/34;B32B37/12;A45D34/04;A45D40/26;B29C33/42;B29C33/10;B29C65/02;A45D40/30;A45D34/00;A45D33/00 |
代理公司: | 北京锺维联合知识产权代理有限公司 11579 | 代理人: | 罗银燕 |
地址: | 韩国首尔特别市中区*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 弹性 微孔 表面 结构 及其 制造 方法 | ||
本发明涉及弹性微孔表面结构及其制造方法。其属于形态上利用外皮膜包围弹性体的弹性微孔表面结构,上述弹性体包括在表面形成的由突出部和凹陷部构成的固体凹凸结构,上述外皮膜包括之字形凹凸结构,上述之字形凹凸结构沿着上述弹性体的固体凹凸结构的突出部及凹陷部的表面紧贴并包围。
技术领域
本发明涉及弹性微孔表面结构及其制造方法,涉及如下的新的弹性微孔表面结构及其制造方法,即,在如硅橡胶的低硬度、高弹性树脂弹性体紧贴如热塑性聚氨酯的薄膜的外皮膜的形态的表面中,通过在形成于弹性体的表面的固体凹凸结构的表面紧贴外皮膜,来使弹性体与外皮膜一同形成微细压纹表面,在适用为如化妆用涂抹器的涂敷面或鼠标垫的表面的情况下,没有表面滑动现象,并可提高触感。
背景技术
众所周知,通常称为化妆用粉扑的化妆用涂抹器为以使使用人员通过沾取霜状或液态的化妆品并涂抹在脸部等的皮肤的方式使用的化妆用工具。现有化妆用粉扑大部分利用形成有多个孔隙的海绵来制造。但是,现有的海绵材质的化妆用粉扑虽具有吸附力大的优点,但是,化妆品残留物容易渗透至海绵内部的孔隙,从而具有无法去除的缺点。残留在海绵粉扑的化妆品残留物容易成为细菌栖息地,因此,卫生不好。
因此具有如下的不便,即,使用人员需要承受定期清洗化妆用粉扑的麻烦,或者继续使用来暴露在细菌污染的危险,或者丢弃使用规定期间的化妆用粉扑并更换新的来使用等。尤其,在现有的海绵材质的化妆用粉扑中,残留在粉扑本身的化妆品的量较多,从而具有浪费高价化妆品的问题。
为了解决如上所述的海绵粉扑的问题,近来,提出了利用如硅橡胶的材质的弹性体的硅胶粉扑。这种硅胶粉扑由弹性体和包围上述弹性体的如聚氨酯的薄外皮构成,上述弹性体的主要材料由硅橡胶构成。硅橡胶具有与皮肤相近或更软的低硬度,从而提供触感好的优点。并且,没有向硅胶粉扑的内部渗透的化妆品残留物,因此,节约化妆品。并且,硅胶粉扑的表面的化妆品残留物容易被如湿巾的手段去除,可卫生地使用。进而,相比于海绵,硅胶粉扑提供耐久性高、使用期限非常长等的多种优点。
但是,现有硅胶粉扑的表面非常滑,因此,具有当化妆时,无法在涂敷面收容适当量的化妆品的缺点。不仅如此,硅胶粉扑表面与皮肤之间的凝胶或液态的化妆品减少粉扑表面与皮肤面之间的摩擦力,从而具有容易打滑的问题。因此,使用人员不易将所需量的化妆品涂敷于所要的皮肤位置,不仅不便,还具有接触于皮肤的触感不好的问题。进而,在如皮肤具有较多毛孔情况的粗糙皮肤面进行化妆的情况下,还具有难以向皮肤毛孔之间的凹凸部分涂抹粉扑表面的化妆品成分的问题。
因此,迫切需要可减少现有的硅胶粉扑表面与皮肤之间的摩擦力的技术。为了顺应上述需求,提出了用于在现有的硅胶粉扑表面形成褶皱或压纹的多种方案。例如,在如日本公开专利特开2005-177163记载了利用在表面进行压纹处理的伸缩性膜包围凝胶材质的结构的化妆用粉扑。在上述技术中,在聚氨酯材质的外皮膜形成压纹,而不是在硅橡胶材质的弹性体形成压纹,来在硅胶粉扑表面提供凹凸。但是,形成有压纹的外皮膜具有与硅橡胶弹性体的附着性弱的问题。并且,还具有外皮膜的厚度越薄,则难以形成所要大小的压纹的技术限制。
换言之,在上述现有技术中,形成化妆用粉扑的外皮的伸缩性膜使用具有约30~120μm的厚度的聚氨酯膜。在向聚氨酯膜本身形成压纹的情况下,这种压纹的凹凸部的厚度具有小于外皮膜厚度的数值,因此,顶多小于120μm。利用如上所述的具有薄深度的主要部分的压纹结构难以有效地向皮肤涂敷化妆品,这是显而易见的。在以之字形方式以波浪形弯曲外皮膜来形成压纹的情况下,即,在形成之字形凹凸结构的情况下,具有之字形凹凸结构的膜与内部材质的接触面积变小,降低附着力。因此,在此情况下,为了维持进行之字形凹凸结构的压纹处理的膜与内部材质之间的粘结力,还需设置额外的粘结层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于孙光伍;孙相烈,未经孙光伍;孙相烈许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880065074.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。