[发明专利]硼的去除方法、及纯水或超纯水的制造方法

说明书

与预先设定的硼吸附塔的硼BTP相对应地，在硼吸附塔的供水硼浓度与通水SV的乘积，或硼吸附塔的供水硼浓度与通水SV与通水时间的乘积成为规定值以下的条件下，进行处理。以使上述乘积成为规定值以下的方式设定填充于硼吸附塔的硼选择性吸附体量。

技术领域

本发明有关向填充有硼选择性吸附体的硼吸附塔中通入含硼水而去除硼的方法。本发明还有关使用该硼的去除方法的纯水或超纯水的制造方法。

本说明书中，所谓BTC(Break through capacity)是指硼吸附塔的贯流更换容量，所谓BTP(Break through point)是指该贯流点(过临界点)。

背景技术

超纯水制造系统由前处理系统、一次纯水系统、子系统(subsystem)构成。

一次纯水系统的作用在于去除前处理水中的离子成分或大部分TOC，是由RO装置(反渗透膜装置)、脱气膜装置、去离子装置等而构成。其中，去离子装置可对应水量或非化学品等的需求而从利用离子交换树脂的复数床式离子交换装置、混床式离子交换装置、电性去离子装置等中选择。

子系统是对由一次纯水系统所得的纯水根据目的进行改进品质提升而制成特定超纯水水质的系统，其由UV装置(紫外线氧化装置)、非再生型离子交换装置、脱气膜装置、UF装置(超过滤膜装置)等构成。

子系统的作用在于去除以一次纯水系统无法去除的微量离子或TOC及微粒子。

近几年来，最前沿的电子产业领域中，已开始要求硼浓度1ng/L以下的超纯水。

以往，作为降低水中硼浓度的手段的一个示例可举出利用硼螯合树脂(硼选择性离子交换树脂)或阴离子交换树脂的方法。硼螯合树脂是基于树脂内部的N-甲基葡糖胺基(NMG)与硼反应而将水中的硼固定化并去除的树脂。

例如，专利文献1中记载了于纯水或超纯水制造设备内的任一位置使前处理水与硼螯合树脂接触而去除硼。

专利文献2中记载了于非试剂再生型脱盐装置(2段RO、电再生式脱盐装置、蒸馏装置)的后段与硼螯合树脂接触。

专利文献3中记载了利用阴离子交换树脂去除硼时，降低被处理水的水温来提高硼BTC。

专利文献4中记载了向吸附硼后的阴离子交换树脂中通入温纯水使硼脱附并再生来提高硼BTC。

[专利文献1]日本特开平8-84986号公报；

[专利文献2]日本特开平9-192661号公报；

[专利文献3]日本特开2005-177564号公报；

[专利文献4]日本特开2009-240891号公报。

硼螯合树脂等的硼选择性吸附体由于昂贵，故期望最大限度地利用其硼吸附容量，亦即期望充分提高硼吸附塔的硼BTC。

在这样的技术要求下，现有技术有些不足，例如所述专利文献1、2的方法，虽可通过单纯配置去除硼，但无法进行与硼螯合树脂匹配的最佳的运转控制，无法实现优化。

专利文献3的方法，虽通过水温调整使容易漏出的硼留于树脂内而有效利用了树脂的吸附容量，但为了调整水温需要设置热交换器，且其效果算不上充分。

专利文献4的方法就硼的脱除而言有望新颖地进行硼去除，但即使为该方法亦无法获得充分提高吸附容量的效果，且亦需耗费温水的成本。

发明内容

本发明的课题在于提供不需要特别的装置设备或试剂、能量等，就可提高填充有硼选择性吸附体的硼吸附塔的硼BTC，最大限度利用硼选择性吸附体的吸附容量，能够以更少的树脂量去除更多硼的硼的去除方法、使用该硼的去除方法的纯水或超纯水的制造方法。