[发明专利]电机、双行程平台和光刻设备

说明书

本发明涉及电机(LD)，包括：静止部(STP)，静止部(STP)包括一行线圈组件(UCA、LCA)，线圈组件具有多个相位；可移动部(MP)，其包括一行永磁体(UPM、LPM)，其中一行线圈组件具有第一长度、并且一行永磁体具有第二长度，其中第二长度小于第一长度，其中线圈组件被布置为与线圈组件对准的永磁体相互作用来生成驱动力；比较器，其将表示可移动部实际位置的位置测量信号与表示可移动部期望位置的设定点信号进行比较，来提供误差信号；运动反馈控制器，被配置为基于误差信号来提供控制信号；至少一个电流放大器，被配置为基于控制信号向线圈组件提供致动信号，其中该电机包括前馈装置，其中前馈装置被配置为基于设定点信号或从其导出的信号来提供电流放大器前馈信号，其中电流放大器前馈信号被提供给至少一个电流放大器，以补偿由于一个或多个线圈组件仅与永磁体部分地对准而引起的在一个或多个线圈组件上的不平衡的反电动势。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2017年10月17日提交的欧洲申请号17196860.5以及于2018年3月8日提交的欧洲申请号18160692.2的优先权，其均以它们的整体通过引用并入本文。

技术领域

本发明涉及电机、双行程平台和光刻设备。

背景技术

光刻设备是将期望的图案应用到衬底上的机器，图案通常被应用到衬底的目标部分上。光刻设备可以用于例如制造集成电路(IC)。在该实例中，图案形成装置，其备选地被称为掩模或掩模版，可以用于生成待形成在IC的单独层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或多个管芯的一部分)上。图案的转印通常经由成像到衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含相邻目标部分的网络，其将相继地进行图案化。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，其中每个目标部分通过一次将整个图案曝光到目标部分上来照射；以及所谓的扫描器，其中每个目标部分借助辐射束在给定方向(“扫描”方向)上扫描图案、同时平行或反平行于该方向同步扫描衬底来照射。还可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转印到衬底。

在光刻设备中，电机用于驱动光刻设备的可移动部。例如，在扫描器型光刻设备中，线性电机可以用于在扫描移动中，移动被支撑在衬底支撑件上的衬底、或被支撑在图案形成装置支撑件上的图案形成装置。

为了准确地控制衬底和/或图案形成装置的位置，双行程平台被使用。在双行程平台中，长行程线性电机用于以相对较低的精度，在相对较大的移动范围内移动长行程平台，结合有短行程线性电机可以以较高的精度在相对较小的移动范围内移动短行程平台。短行程平台由长行程平台支撑。

通过控制短行程平台的位置，只要期望位置在短行程平台的小移动范围内，短行程平台就可以准确地定位在该期望位置。长行程平台的移动用于将短行程平台的期望位置定位在短行程平台的小移动范围内。

为了提高光刻设备的生产性能，存在对增加光刻工艺的生产能力、以及对准性能和聚焦性能的持续的需求。

随着对光刻工艺的生产能力的这种增加的需求，衬底支撑件和图案形成装置支撑件的速度和加速度需要增加。随着速度和加速度的增加，双行程平台可能成为光刻设备中更主要的振动源，这通常是不期望的。

发明内容

本发明的一个目的是提供电机、特别是允许高的速度和加速度水平、同时基本上减少由线性电机引起的振动的线性电机。

根据本发明的一个方面，提供了一种电机，包括：

静止部，包括一行线圈组件；

可移动部，包括一行永磁体，其中一行线圈组件具有第一长度并且一行永磁体具有第二长度，其中第二长度小于第一长度，其中线圈组件被布置以与和线圈组件对准的永磁体相互作用来生成驱动力；