[发明专利]曝光装置和用于制造物品的方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，包括：

投影光学系统，被配置为将用于在基板上形成图案的曝光光投影到基板上；

遮光构件，具有用于允许曝光光通过的开口；

聚焦检测单元，被配置为检测表示曝光光的会聚位置与基板之间的位置偏差的散焦量；

第一光接收元件，被配置为接收在被基板反射之后穿过遮光构件中的开口的光束；

第二光接收元件，被配置为接收在被基板反射之后未穿过遮光构件中的开口的光束，并且被部署在与部署了第一光接收元件的位置不同的位置处；以及

控制单元，被配置为基于聚焦检测单元中的检测结果在投影光学系统的光轴方向上移动遮光构件，

其中，聚焦检测单元通过使用由第二光接收元件接收的光量来校正由第一光接收元件接收的光量的参考值，并且基于校正后的由第一光接收元件接收的光量的参考值来检测散焦量，并且

其中，由第一光接收元件接收的最大光量被用作由第一光接收元件接收的光量的参考值。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中控制单元以使得由第一光接收元件接收的光量增加的方式移动遮光构件。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其中遮光构件部署在投影光学系统的光路中。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其中在散焦量小于预定量的对焦状态下，遮光构件部署在与基板光学共轭的平面中。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其中遮光构件由金属制成。

6.根据权利要求1所述的曝光装置，还包括：

光学调制单元，包括多个光学调制元件；以及

照明光学系统，被配置为用光照射光学调制单元，

其中由光学调制单元反射的光进入投影光学系统。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，

其中，在用于改变表示曝光光的会聚位置与基板之间的位置偏差的散焦量的聚焦控制下，执行将点光投影通过投影光学系统到基板上的曝光操作，该点光由照明光学系统形成，并且

其中，对基板上的具体区域重复所述曝光操作。

8.一种曝光装置，其特征在于，包括：

曝光单元，包括投影光学系统和第一遮光构件，投影光学系统被配置为将用于在基板上形成图案的曝光光投影到基板上，第一遮光构件被配置为改变曝光光的会聚位置；以及

光学单元，包括第二遮光构件、第一光接收元件和第二光接收元件，第二遮光构件具有用于允许被基板反射的光穿过的开口，第一光接收元件被配置为接收在被基板反射之后穿过第二遮光构件中的开口的光束，第二光接收元件被配置为接收在被基板反射之后未穿过第二遮光构件中的开口的光束，且第二光接收元件被部署在与部署了第一光接收元件的位置不同的位置处，

其中，基于由第二光接收元件接收的光量来校正由第一光接收元件接收的光量的参考值，并且基于校正后的参考值来在投影光学系统的光轴方向上移动第一遮光构件，并且

其中，由第一光接收元件接收的最大光量被用作由第一光接收元件接收的光量的参考值。

9.一种物品制造方法，其特征在于，包括：

通过使用根据权利要求1至8中的任一项所述的曝光装置对基板进行曝光的步骤；以及

显影在曝光步骤中曝光的基板的步骤。