[发明专利]曝光装置和用于制造物品的方法

说明书

一种曝光装置，被配置为包括：投影光学系统(PO)，用于将用于在基板上形成图案的曝光光束投影到基板(PL)上；遮光构件(PH1)，包括用于曝光光束通过的开口；聚焦检测单元，用于检测表示曝光光束的焦点位置与基板之间的未对准的散焦量；以及控制单元(CTR)，用于基于聚焦检测单元进行检测的结果在投影光学系统(PO)的光轴方向上移动遮光构件(PH1)。

技术领域

本发明涉及曝光装置以及使用曝光装置的物品制造方法。

背景技术

曝光装置是已知的，通过曝光装置，原稿(掩模)上的图案通过投影光学系统被转印到光敏基板上。近年来，通过这种曝光装置曝光的基板已经变得较大，因而，上面有图案的掩模已经变得较大。随着掩模变得较大，掩模本身的成本和制造掩模所需的时间都增加了。这导致制造掩模的较高成本。

作为对此的解决方案，所谓的无掩模曝光装置引起关注，无掩模曝光装置能够在基板上形成图案而无需使用上面有图案的掩模。无掩模曝光装置是使用光学调制器(诸如数字微镜器件(DMD))的数字曝光装置。在无掩模曝光装置中，DMD生成与曝光图案对应的曝光光、在基板上曝光与曝光图案对应的图案数据以及从而在不使用掩模的情况下在基板上形成图案。

专利文献1公开了一种无掩模曝光装置，其中从激光发射部发射的激光束进入光学调制元件，并且曝光元件将激光束调制为或者曝光状态或者非曝光状态，以基于图像数据执行图像曝光。

[引文列表]

[专利文献]

PTL 1：日本专利申请公开No.2004-62155

PTL 2：日本专利申请公开No.2011-2512

发明内容

[技术问题]

在无掩模曝光装置中，点光(spot light)在基板上的强度分布对于图案分辨率性能具有重大影响。如果点光的会聚位置在垂直于基板的方向上偏离，那么造成的点光在基板上的强度分布的变化可能导致图案分辨率性能的劣化。通过聚焦控制来提高图案分辨率性能，其中聚焦控制减小了表示在点光的会聚位置与基板表面之间的位置偏差的散焦。

专利文献2公开了一种使用图像处理传感器来检测散焦的聚焦控制方法。图像处理传感器部署在保持基板的保持构件上。在聚焦控制中，由光学调制器反射并透射通过投影光学系统的光被成像在图像处理传感器上，并且由光学调制器反射的光束的角度以增加在图像处理传感器上形成的光学图像的对比度的方式被调节。

利用专利文献2中公开的聚焦控制方法，可以对相对于基板的保持表面的散焦执行聚焦控制。但是，难以对相对于实际发生图案形成的基板的散焦执行聚焦控制。因此，利用在专利文献2中公开的聚焦控制方法，可能难以充分提高聚焦准确性。而且，由于基于光学图像的对比度来执行聚焦控制花费相对长的时间，因此难以实现高速聚焦控制。

本发明的一个目的是提供一种能够在基板上高速执行聚焦控制的曝光装置。

[解决问题的技术方案]

根据本发明的曝光装置包括：投影光学系统，被配置为将用于在基板上形成图案的曝光光投影到基板上；遮光构件，具有用于允许曝光光通过的开口；聚焦检测单元，被配置为检测表示曝光光的会聚位置与基板之间的位置偏差的散焦量；以及控制单元，被配置为基于聚焦检测单元中的检测结果，在投影光学系统的光轴方向上移动遮光构件。

[发明的有益效果]

本发明提供了一种能够在基板上高速执行聚焦控制的曝光装置。

附图说明

图1是例示根据第一实施例的光学系统的配置的图。

图2是例示根据第二实施例的光学系统的配置的图。